摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
目录 | 第8-14页 |
第一章 绪论 | 第14-27页 |
·引言 | 第14-15页 |
·多铁材料的主要性质 | 第15-18页 |
·铁磁性能 | 第15-16页 |
·铁电性能 | 第16-17页 |
·介电性能 | 第17-18页 |
·铁电薄膜的制备方法 | 第18-21页 |
·金属有机气象沉积 | 第18-19页 |
·溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第19页 |
·脉冲激光沉积法(PLD) | 第19页 |
·磁控溅射法(Magetron sputtering) | 第19-20页 |
·射频磁控溅射的原理 | 第20-21页 |
·薄膜的制备工艺和表征方法 | 第21-24页 |
·薄膜制备和分析器材设备 | 第21-22页 |
·薄膜特性表征方法 | 第22-24页 |
·研究背景和课题的确定 | 第24-26页 |
·研究背景 | 第24-25页 |
·课题的确定 | 第25-26页 |
·本文主要研究内容 | 第26-27页 |
第二章 BST-BZT-BST复合薄膜的制备和电性能研究 | 第27-33页 |
·前言 | 第27页 |
·薄膜制备与性能测试 | 第27-28页 |
·结构和形貌分析 | 第28-29页 |
·介电性能分析 | 第29-31页 |
·铁电性能分析 | 第31页 |
·光学性能分析 | 第31-32页 |
·小结 | 第32-33页 |
第三章 BST与BNF多层薄膜的制备与表征 | 第33-41页 |
·前言 | 第33-34页 |
·样品的制备与测试 | 第34页 |
·结构和形貌分析 | 第34-36页 |
·介电性能分析 | 第36-38页 |
·铁电性能分析 | 第38-39页 |
·铁磁性能分析 | 第39-40页 |
·小结 | 第40-41页 |
第四章 多层薄膜的漏电流研究 | 第41-49页 |
·前言 | 第41页 |
·几种漏电流机制 | 第41-43页 |
·肖特基机制(Schottky) | 第41-42页 |
·空间电荷限制电流(SCLC) | 第42页 |
·普尔-弗兰克尔(Poole-Frenkel)机制 | 第42-43页 |
·FN隧道机制 | 第43页 |
·欧姆机制(Ohmic) | 第43页 |
·BNF-BST多层薄膜的漏电流机制 | 第43-48页 |
·小结 | 第48-49页 |
第五章 钛酸钡与钛酸铜钙基陶瓷的介电特性 | 第49-61页 |
·BaTiO3基陶瓷的介电性能与PTCR效应研究 | 第49-54页 |
·引言 | 第49页 |
·实验 | 第49-50页 |
·表面形貌 | 第50-51页 |
·介电性能 | 第51-53页 |
·PTC效应 | 第53-54页 |
·(CaCu_3)_(0.95)Sr_(0.05)TiO_3陶瓷的介电弛豫和阻抗分析 | 第54-59页 |
·引言 | 第54页 |
·实验 | 第54-55页 |
·结构分析 | 第55页 |
·介电频谱与介电温谱 | 第55-57页 |
·阻抗谱及其机理分析 | 第57-59页 |
·小结 | 第59-61页 |
结论 | 第61-63页 |
参考文献 | 第63-71页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第71-73页 |
致谢 | 第73页 |