| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-18页 |
| 1．1． 研究背景 | 第8-16页 |
| 1．2． 本论文的研究目的，意义和研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 高支化碱溶性感光聚合物的合成 | 第18-52页 |
| 2．1． 引言 | 第18-22页 |
| 2．2． 实验部分 | 第22-25页 |
| 2．2．1． 原材料 | 第22页 |
| 2．2．2． 高支化碱溶性感光聚合物的合成 | 第22-23页 |
| 2．2．3． 含光敏结构高支化碱溶性感光聚合物的合成 | 第23页 |
| 2．2．4． 官能化环氧树脂改性高支化碱溶性聚酯 | 第23页 |
| 2．2．5． 分析测试 | 第23-25页 |
| 2．3． 结果与讨论 | 第25-50页 |
| 2．3．1． 高支化聚酯的合成 | 第25-33页 |
| 2．3．2． 末端官能化 | 第33-38页 |
| 2．3．3． 反应条件的影响 | 第38-40页 |
| 2．3．4． 性能与表征 | 第40-50页 |
| 小结 | 第50-52页 |
| 第三章 高支化碱溶性感光聚合物光成像研究 | 第52-80页 |
| 3．1． 引言 | 第52-55页 |
| 3．2． 实验部份 | 第55-59页 |
| 3．2．1． 原材料 | 第55-56页 |
| 3．2．2． GMA改性酒石酸双丁二酸酯交联剂FS-1的合成 | 第56-57页 |
| 3．2．3． 高支化碱溶性感光聚合物碱溶性测定 | 第57页 |
| 3．2．4． 凝胶法测定高支化碱溶性感光聚合物的感光特性 | 第57页 |
| 3．2．5． 交联剂用量对抗蚀膜性能的影响 | 第57-58页 |
| 3．2．6． 抗蚀剂的配制 | 第58-59页 |
| 3．2．7． 成像条件 | 第59页 |
| 3．3． 结果与讨论 | 第59-67页 |
| 3．3．1． 高支化碱溶性感光聚合物的碱溶性 | 第59页 |
| 3．3．2． 高支化碱溶性感光聚合物的感光性 | 第59-65页 |
| 3．3．3． 引发剂用量对抗蚀剂感光特性的影响 | 第65-67页 |
| 3．3．4． 交联剂酸值对抗蚀剂感光特性的影响 | 第67页 |
| 3．4． 成像性研究 | 第67-78页 |
| 3．4．1． 树脂中GMA含量对成像显影性能的影响 | 第68-70页 |
| 3．4．2． TA/ECH摩尔比对抗蚀剂成像显影性能的影响 | 第70-72页 |
| 3．4．3． 分子内的光敏结构对抗蚀剂成像显影性能的影响 | 第72-73页 |
| 3．4．4． 官能化环氧改性高支化碱溶性树脂的成像显影性能 | 第73-75页 |
| 3．4．5． 曝光光源对成像显影性能的影响 | 第75-77页 |
| 3．4．6． 分辨率 | 第77-78页 |
| 小结 | 第78-80页 |
| 第四章 高支化碱溶性感光聚合物在微透镜阵列光学元件加工中的应用 | 第80-107页 |
| 4．1． 引言 | 第80-87页 |
| 4．2． 实验部分 | 第87-90页 |
| 4．2．1． 原材料 | 第87页 |
| 4．2．2． 光致抗蚀剂组成 | 第87页 |
| 4．2．3． 光致抗蚀剂的感光曲线 | 第87-89页 |
| 4．2．4． 匀胶速度与抗蚀剂膜厚关系 | 第89页 |
| 4．2．5． 抗蚀剂膜厚与透过光强的关系 | 第89-90页 |
| 4．2．6． 最佳线性膜厚的理论计算 | 第90页 |
| 4．2．7． 微透镜阵列的形成 | 第90页 |
| 4．3． 结果与讨论 | 第90-105页 |
| 4．3．1． 负型光致抗蚀剂刻蚀与曝光能量的关系 | 第90-92页 |
| 4．3．2． 连续面形对光刻胶的要求 | 第92-93页 |
| 4．3．3． 高支化碱溶性感光聚合物配制的抗蚀剂线性性能研究 | 第93-97页 |
| 4．3．4． 其它抗蚀剂的线性变化 | 第97-99页 |
| 4．3．5． 微透镜阵列的形成 | 第99-105页 |
| 小结 | 第105-107页 |
| 第五章 结论 | 第107-109页 |
| 参考文献 | 第109-117页 |
| 致谢 | 第117-118页 |
| 附录 | 第118-120页 |
