| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-23页 |
| ·碳纳米管简介 | 第9-13页 |
| ·定向碳纳米管的制备 | 第13-14页 |
| ·切片法 | 第13页 |
| ·过滤法 | 第13页 |
| ·化学气相沉积法 | 第13-14页 |
| ·碳纳米管的生长机理 | 第14-17页 |
| ·电弧中碳纳米管的生长机理模型 | 第14-15页 |
| ·激光蒸发法制备碳纳米管的生长机理 | 第15页 |
| ·催化热解法制备碳纳米管的生长机理 | 第15-17页 |
| ·CVD法制备定向碳纳米管薄膜的取向机制 | 第17-18页 |
| ·密度控制机制 | 第17页 |
| ·速率控制机制 | 第17页 |
| ·等离子体诱导机制 | 第17-18页 |
| ·取向生长碳纳米管与工艺参数的关系 | 第18页 |
| ·碳纳米管性能和应用前景 | 第18-21页 |
| ·碳纳米管的性能 | 第18-20页 |
| ·碳纳米管的应用前景 | 第20-21页 |
| ·本文工作研究意义和内容 | 第21-23页 |
| ·课题的研究意义 | 第21-22页 |
| ·课题研究内容 | 第22-23页 |
| 第2章 实验材料和实验方法 | 第23-30页 |
| ·实验设备和仪器 | 第23-25页 |
| ·沉积碳纳米管薄膜的实验设备(自制卧式反应炉) | 第23页 |
| ·碳纳米管薄膜基底转换设备(自制小型滚轮式弹性平压机) | 第23-24页 |
| ·场发射测试设备 | 第24页 |
| ·导热性能测试设备 | 第24页 |
| ·阵列式碳纳米管薄膜性能检测设备 | 第24-25页 |
| ·其他仪器 | 第25页 |
| ·实验材料 | 第25页 |
| ·实验方法 | 第25-30页 |
| ·沉积石英基底阵列式碳纳米管薄膜方法 | 第25-26页 |
| ·制造铝基碳纳米管薄膜的方法 | 第26页 |
| ·检测碳纳米管薄膜的方法 | 第26-27页 |
| ·薄膜电阻测量方法 | 第27页 |
| ·场发射性能测试方法 | 第27-28页 |
| ·铝基底碳纳米管导热性能测试方法 | 第28-30页 |
| 第3章 定向碳纳米管膜的制备 | 第30-38页 |
| ·实验准备 | 第30页 |
| ·阵列式碳纳米管膜的表征 | 第30-31页 |
| ·碳纳米管的结构 | 第30-31页 |
| ·CNTs膜层结构 | 第31页 |
| ·结果与分析 | 第31-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第4章 碳纳米管转移至铝箔上的工艺研究 | 第38-44页 |
| ·前言 | 第38页 |
| ·石英基底上碳纳米管的形貌 | 第38-39页 |
| ·碳纳米管从石英基底上转移至铝箔后的形貌 | 第39-41页 |
| ·各层膜的宏观形貌 | 第39页 |
| ·转移碳纳米管膜的微观形貌 | 第39-41页 |
| ·影响碳纳米管膜从石英基底转移到铝箔基底上的因素 | 第41-43页 |
| ·原膜沉积质量 | 第41-42页 |
| ·石英玻璃片表面粗糙度的影响 | 第42页 |
| ·碳纳米管膜表面处理的影响 | 第42页 |
| ·压力的影响 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第5章 铝基定向碳纳米管导热性能和场发射性能的研究 | 第44-61页 |
| ·铝基碳纳米管膜的电阻 | 第44-46页 |
| ·铝基阵列式碳纳米管的导热性能 | 第46-51页 |
| ·导热原理 | 第47页 |
| ·铝基阵列式碳纳米管的导热性能测试结果 | 第47-50页 |
| ·结果分析和讨论 | 第50-51页 |
| ·存在的问题和今后努力的方向 | 第51页 |
| ·铝基碳纳米管膜的场发射性能 | 第51-60页 |
| ·场致发射的基本原理 | 第52-53页 |
| ·场致发射的评价指标 | 第53-54页 |
| ·铝基碳纳米管薄膜样品场发射性能测试 | 第54页 |
| ·铝基碳纳米管薄膜的场发射特性 | 第54-58页 |
| ·铝基碳纳米管薄膜场发射特性结果分析 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第6章 结论 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第67页 |