| 提要 | 第1-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·课题背景 | 第7-9页 |
| ·研究意义 | 第9-11页 |
| 第二章 二次谐波产生的理论 | 第11-45页 |
| ·体二次谐波产生的理论 | 第11-28页 |
| ·非线性光学概述 | 第11-12页 |
| ·电极化率张量及电极化强度 | 第12-17页 |
| ·三维空间中电极化强度的表示 | 第17-22页 |
| ·非线性相互作用的电磁公式 | 第22-23页 |
| ·光学二次谐波的产生 | 第23-28页 |
| ·立方对称晶体二次谐波产生的唯象理论 | 第28-45页 |
| ·二次谐波产生中的体贡献 | 第28-37页 |
| ·二次谐波产生中的表面贡献 | 第37-45页 |
| 第三章 Si 表面及Si/SiO_2界面二次谐波产生 | 第45-59页 |
| ·Si/SiO_2界面应力诱导的二次谐波的产生的理论 | 第45-54页 |
| ·应力张量和应变张量的描述 | 第45-47页 |
| ·晶格形变层反射的二次谐波的理论推导 | 第47-54页 |
| ·不同方位角反射二次谐波强度的分布 | 第54页 |
| ·Si/SiO_2界面应力诱导的二次谐波的产生的实验 | 第54-59页 |
| 第四章 应力诱导的Si二次谐波的产生 | 第59-79页 |
| ·外加应力作用下Si 表面二次谐波的产生 | 第59-70页 |
| ·外力作用下Si 体对称性的变化 | 第59-68页 |
| ·单轴器件及表面应变的测量 | 第68-70页 |
| ·单轴应力作用下二次谐波产生的实验 | 第70-78页 |
| ·总结 | 第78-79页 |
| 第五章 结论 | 第79-81页 |
| 参考文献 | 第81-84页 |
| 摘要 | 第84-86页 |
| Abstract | 第86-89页 |
| 致谢 | 第89页 |
