氮化铬和氮化碳薄膜的径向纳动运行与损伤研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| ·微机电系统及其摩擦学问题 | 第11-14页 |
| ·微机电系统概述 | 第11-13页 |
| ·微机电系统摩擦学问题 | 第13-14页 |
| ·MEMS中薄膜应用 | 第14-15页 |
| ·纳动 | 第15-18页 |
| ·薄膜的纳动损伤研究 | 第18-20页 |
| ·氮化铬和氮化碳薄膜的径向纳动研究 | 第20-21页 |
| ·论文研究意义及内容 | 第21-23页 |
| ·论文研究意义 | 第21-22页 |
| ·论文主要研究内容 | 第22-23页 |
| 第2章 试验材料和方法 | 第23-35页 |
| ·试验装置 | 第23-25页 |
| ·材料选择、实验参数及分析方法 | 第25-31页 |
| ·材料选择 | 第25-30页 |
| ·实验参数 | 第30-31页 |
| ·分析方法 | 第31-35页 |
| ·理论分析方法 | 第31-34页 |
| ·实验分析方法 | 第34-35页 |
| 第3章 氮化铬薄膜的纳动运行行为与损伤机理研究 | 第35-46页 |
| ·实验材料与方法 | 第35页 |
| ·实验样品 | 第35页 |
| ·实验方法 | 第35页 |
| ·实验结果与讨论 | 第35-45页 |
| ·载荷效应 | 第35-37页 |
| ·循环次数效应 | 第37-43页 |
| ·薄膜损伤机理分析 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 氮化碳薄膜的纳动运行行为与损伤机理研究 | 第46-56页 |
| ·实验材料与方法 | 第46-47页 |
| ·实验材料 | 第46页 |
| ·实验方法 | 第46-47页 |
| ·实验结果与讨论 | 第47-51页 |
| ·损伤机理分析 | 第51-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第5章 膜厚与压头曲率半径对薄膜纳动性能的影响 | 第56-66页 |
| ·实验材料及方法 | 第56-57页 |
| ·实验材料 | 第56页 |
| ·实验方法 | 第56-57页 |
| ·膜/基体系径向纳动损伤分析 | 第57页 |
| ·纳动过程的膜厚效应 | 第57-61页 |
| ·实验结果与讨论 | 第58-60页 |
| ·a-CN_x薄膜的膜厚效应 | 第60-61页 |
| ·压头曲率半径对薄膜纳动损伤的影响 | 第61-65页 |
| ·实验结果与讨论 | 第61-64页 |
| ·压头的曲率半径效应 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第74页 |