| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 1 TiO_2薄膜的性质及制备方法 | 第11-25页 |
| ·TiO_2的基本结构和应用 | 第11-12页 |
| ·TiO_2的性质与结构 | 第11-12页 |
| ·纳米TiO_2薄膜的应用 | 第12页 |
| ·TiO_2的光催化原理 | 第12-14页 |
| ·TiO_2薄膜的制备方法 | 第14-18页 |
| ·液相法 | 第14-16页 |
| ·物理气相沉积法 | 第16页 |
| ·化学气相沉积 | 第16-18页 |
| ·介质阻挡放电等离子体制备薄膜 | 第18-23页 |
| ·等离子体的基本概念 | 第18-19页 |
| ·介质阻挡放电的发展 | 第19-20页 |
| ·介质阻挡放电原理 | 第20-21页 |
| ·介质阻挡放电的电极结构 | 第21-22页 |
| ·介质阻挡放电的应用 | 第22-23页 |
| ·本论文的选题依据和研究意义 | 第23-25页 |
| 2 实验部分 | 第25-33页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第25-26页 |
| ·实验仪器 | 第25页 |
| ·实验试剂 | 第25-26页 |
| ·TiO_2薄膜的制备 | 第26-28页 |
| ·实验流程 | 第26-27页 |
| ·反应器 | 第27-28页 |
| ·光催化活性评价 | 第28-29页 |
| ·TiO_2薄膜的表征 | 第29-31页 |
| ·TiO_2薄膜的定量 | 第29-30页 |
| ·拉曼光谱(Raman) | 第30页 |
| ·紫外可见吸收光谱(UV-Vis) | 第30页 |
| ·傅里叶红外光谱(FT-IR) | 第30-31页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第31页 |
| ·发射光谱诊断 | 第31-33页 |
| 3 大气压等离子体化学气相沉积TiO_2薄膜及薄膜的热处理 | 第33-39页 |
| ·TiO_2薄膜的沉积条件 | 第33页 |
| ·TiO_2薄膜的沉积速率 | 第33-34页 |
| ·TiO_2薄膜的Raman表征 | 第34-35页 |
| ·TiO_2薄膜的FT-IR光谱 | 第35页 |
| ·TiO_2薄膜的UV-Vis光谱 | 第35-36页 |
| ·TiO_2薄膜的AFM | 第36-37页 |
| ·TiO_2薄膜的光催化活性评价 | 第37-39页 |
| 4 制备条件对TiO_2薄膜性质的影响 | 第39-53页 |
| ·TTIP分压对TiO_2薄膜性质的影响 | 第39-41页 |
| ·不同TTIP分压制备TiO_2薄膜的FT-IR光谱 | 第39页 |
| ·不同TTIP分压制备TiO_2薄膜的光催化活性 | 第39-40页 |
| ·不同TTIP分压制备TiO_2薄膜的UV-Vis光谱 | 第40-41页 |
| ·O_2分压对TiO_2薄膜性质的影响 | 第41-43页 |
| ·不同O_2分压制备TiO_2薄膜的FT-IR光谱 | 第41-42页 |
| ·不同O_2分压制备TiO_2薄膜的光催化活性 | 第42-43页 |
| ·不同O_2分压制备TiO_2薄膜的UV-Vis光谱 | 第43页 |
| ·输入功率的影响 | 第43-46页 |
| ·不同输入功率制备TiO_2薄膜的FT-IR光谱 | 第44页 |
| ·输入功率对TiO_2薄膜光催化活性的影响 | 第44-45页 |
| ·输入功率对TiO_2薄膜UV-Vis光谱的影响 | 第45-46页 |
| ·沉积时间的影响 | 第46-48页 |
| ·不同沉积时间制备TiO_2薄膜的FT-IR光谱 | 第46页 |
| ·沉积时间对TiO_2薄膜光催化活性的影响 | 第46-47页 |
| ·沉积时间对TiO_2薄膜UV-Vis光谱的影响 | 第47-48页 |
| ·不同实验条件的发射光谱及温度计算 | 第48-53页 |
| ·OES光谱诊断 | 第48-49页 |
| ·不同实验条件下振动温度 | 第49-51页 |
| ·不同实验条件下的转动温度 | 第51-53页 |
| 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
