| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 1 绪论 | 第10-21页 |
| ·微米和纳米金刚石薄膜性能及应用 | 第10-13页 |
| ·力学性能及应用 | 第10-11页 |
| ·电学性能及应用 | 第11-12页 |
| ·热学性能及应用 | 第12页 |
| ·光学性能及应用 | 第12-13页 |
| ·其他性能及应用 | 第13页 |
| ·纳米金刚石薄膜沉积工艺 | 第13-15页 |
| ·直流等离子体喷射CVD法 | 第13-14页 |
| ·直流热阴极等离子体CVD法 | 第14页 |
| ·燃烧火焰法 | 第14页 |
| ·微波等离子体CVD法 | 第14-15页 |
| ·热丝CVD法 | 第15页 |
| ·纳米金刚石薄膜沉积原理及技术关键 | 第15-17页 |
| ·纳米金刚石薄膜沉积原理 | 第15-16页 |
| ·纳米金刚石薄膜技术关键 | 第16-17页 |
| ·薄膜产生内应力的原因 | 第17-18页 |
| ·纳米金刚石的发展趋势及应用前景 | 第18-19页 |
| ·本论文研究目的、意义及内容 | 第19-21页 |
| 2 HFCVD方法制备纳米金刚石薄膜的设备及工艺简介 | 第21-33页 |
| ·热丝化学气相沉积(HFCVD)方法简介 | 第21-23页 |
| ·实验设备简介 | 第21-22页 |
| ·真空系统 | 第22-23页 |
| ·热丝的选择 | 第23页 |
| ·CVD金刚石的合成原理 | 第23-26页 |
| ·碳的P-T相图 | 第23-24页 |
| ·CVD金刚石的生长模式 | 第24-26页 |
| ·反应气体的分布 | 第26页 |
| ·纳米金刚石薄膜制备 | 第26-29页 |
| ·工艺流程 | 第26-27页 |
| ·工艺参数 | 第27-29页 |
| ·纳米金刚石薄膜的表征 | 第29-33页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第29页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第29页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第29-30页 |
| ·Raman光谱散射 | 第30-31页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第31-32页 |
| ·膜厚测量仪 | 第32-33页 |
| 3 工艺参数对沉积纳米金刚石薄膜的影响 | 第33-59页 |
| ·反应气压对热丝法沉积薄膜的影响 | 第33-37页 |
| ·表面形貌分析 | 第33-35页 |
| ·微观结构分析 | 第35-37页 |
| ·氩气浓度对热丝法沉积薄膜的影响 | 第37-44页 |
| ·表面形貌分析 | 第37-39页 |
| ·微观结构分析 | 第39-43页 |
| ·氩气对金刚石薄膜沉积机理的影响 | 第43-44页 |
| ·甲烷浓度对热丝法沉积薄膜的影响 | 第44-48页 |
| ·表面形貌分析 | 第44-46页 |
| ·微观结构分析 | 第46-48页 |
| ·脉冲偏压对热丝法沉积薄膜的影响 | 第48-52页 |
| ·表面形貌分析 | 第48-50页 |
| ·微观结构分析 | 第50-51页 |
| ·脉冲偏压对金刚石薄膜沉积机理的影响 | 第51-52页 |
| ·不同衬底对热丝法沉积薄膜的影响 | 第52-54页 |
| ·表面形貌分析 | 第52-53页 |
| ·微观结构分析 | 第53-54页 |
| ·多晶硅过渡层对热丝法沉积薄膜的影响 | 第54-56页 |
| ·表面形貌分析 | 第55页 |
| ·微观结构分析 | 第55-56页 |
| ·单晶硅衬底上沉积金刚石薄膜的生长过程 | 第56-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |