提要 | 第1-8页 |
第1章 绪论 | 第8-32页 |
·超导体的研究进展 | 第8-12页 |
·超导体的基本性质 | 第12-16页 |
·零电阻效应 | 第12-13页 |
·迈斯纳效应 | 第13-14页 |
·临界磁场和超导体的分类 | 第14-16页 |
·超导电性的微观物理机制—BCS理论 | 第16-18页 |
·电子与声子的相互作用 | 第16-17页 |
·库柏对 | 第17页 |
·超导电性的微观物理图像 | 第17-18页 |
·铜氧化物高温超导体 | 第18-23页 |
·铜氧化物高温超导体的电子态相图 | 第19-20页 |
·铜氧化物高温超导体的结构 | 第20-23页 |
·铜氧化物高温超导体的元素替代效应与高温超导机理 | 第23-25页 |
·引言 | 第23-24页 |
·元素替代效应的物理图像 | 第24-25页 |
·助熔剂法(高温熔液)生长方法概述 | 第25-28页 |
·助熔剂方法的主要特点 | 第26页 |
·助熔剂的选择和类型 | 第26-27页 |
·坩埚的选择 | 第27-28页 |
·选题的意义及主要研究内容 | 第28-30页 |
·本文所用表征方法和测试手段 | 第30-32页 |
第2章 汞系高温超导体简介 | 第32-52页 |
·汞系高温超导体的晶体结构 | 第32-35页 |
·Hg-Ba-Ca-Cu-O体系相图 | 第35-39页 |
·BaO-CuO、CaO-CuO、BaO-CaO二元系 | 第36-37页 |
·HgO-CuO、HgO-BaO、HgO-CaO二元系 | 第37页 |
·BaO-CaO-CuO三元系 | 第37-38页 |
·HgO-BaO-CuO三元系 | 第38-39页 |
·HgO-BaO-CaO-CuO四元系的相关系 | 第39页 |
·汞系高温超导体的制备 | 第39-44页 |
·固相扩散法制备 | 第40-43页 |
·高压合成法 | 第43-44页 |
·汞系高温超导体的掺杂 | 第44-48页 |
·汞系高温超导体的压力效应 | 第48-52页 |
第3章 汞系高温超导体单晶体生长 | 第52-65页 |
·汞系高温超导体单晶体生长方法的选择 | 第52-53页 |
·HgBa_2CuO_(4+δ)(Hg1201)单晶体的生长 | 第53-59页 |
·HgBa_2CaCu_2O_(6+δ)(Hg1212)晶体的生长 | 第59-61页 |
·HgBa_2Cu_(1-x)Zn_xO_(4+δ)晶体的生长 | 第61-64页 |
·本章小结 | 第64-65页 |
第4章 汞系高温超导体的表征 | 第65-87页 |
·退火(热处理)实验 | 第65-69页 |
·电学性质测量 | 第69-78页 |
·利用剩余磁矩测量超导抗磁性-REM方法 | 第78-83页 |
·晶体表面的处理和表征 | 第83-85页 |
·晶体表面处理:刻蚀 | 第83页 |
·超导样品的X射线光电子能谱(XPS)研究 | 第83-85页 |
·本章小结 | 第85-87页 |
第5章 氧化亚铜的绿色化学合成 | 第87-109页 |
·氧化亚铜的性质 | 第87-89页 |
·氧化亚铜的合成方法 | 第89-91页 |
·氧化亚铜的应用特性 | 第91-92页 |
·氧化铜与铜的反应 | 第92-98页 |
·空气气氛中氧化铜和铜的高温反应 | 第93-95页 |
·氩气气氛中氧化铜和铜的高温反应 | 第95-96页 |
·密闭体系中氧化铜和铜的反应 | 第96-97页 |
·助熔剂对氧化铜和铜的反应的影响 | 第97-98页 |
·氧化亚铜晶体的生长 | 第98-101页 |
·氧化亚铜晶体生长的影响因素 | 第101-106页 |
·晶体生长热力学因素 | 第101-104页 |
·晶体生长动力学因素 | 第104-106页 |
·氧化亚铜绿色合成推广前景 | 第106-107页 |
·本章小结 | 第107-109页 |
第6章 结论 | 第109-112页 |
参考文献 | 第112-125页 |
致谢 | 第125-126页 |
作者简历 | 第126-127页 |
攻读博士学位期间发表论文 | 第127-128页 |
中文摘要 | 第128-133页 |
英文摘要 | 第133-137页 |