面阵式激光雷达探测芯片的设计与制作
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-15页 |
| ·研究背景及意义 | 第7-12页 |
| ·研究背景 | 第7页 |
| ·雷达原理介绍 | 第7-11页 |
| ·AM/CW激光雷达 | 第8页 |
| ·距离选通法 | 第8-9页 |
| ·FM/CW激光雷达 | 第9-11页 |
| ·MSM探测器 | 第11-12页 |
| ·国内外研究进展 | 第12-13页 |
| ·本文的主要任务 | 第13-15页 |
| 第二章 GaAs-MSM器件结构 | 第15-32页 |
| ·热电子发射模型 | 第15-29页 |
| ·热电子发射理论 | 第15-17页 |
| ·MSM光电探测器的热电子发射模型 | 第17-29页 |
| ·响应度 | 第29页 |
| ·带宽 | 第29-32页 |
| ·本征电容 | 第30页 |
| ·渡越时间 | 第30-32页 |
| 第三章 相关工艺介绍 | 第32-41页 |
| ·MOCVD介绍 | 第32-36页 |
| ·MOCVD的概念及原理 | 第32-33页 |
| ·MOCVD设备介绍 | 第33-36页 |
| ·系统结构 | 第34-35页 |
| ·气体源供给系统 | 第35页 |
| ·尾气处理系统 | 第35-36页 |
| ·设备的性能与特性 | 第36页 |
| ·光刻工艺介绍 | 第36-40页 |
| ·光学光刻技术 | 第36-39页 |
| ·接近式和接触式光刻 | 第36-37页 |
| ·投影式光刻系统 | 第37-39页 |
| ·光刻胶技术 | 第39-40页 |
| ·反应离子刻蚀介绍 | 第40-41页 |
| 第四章 器件的制作 | 第41-47页 |
| ·器件的结构 | 第41页 |
| ·基底材料的生长 | 第41-42页 |
| ·电极的制作 | 第42-46页 |
| ·光刻版版图的设计 | 第42-43页 |
| ·器件制作流程图 | 第43页 |
| ·器件具体制作工艺 | 第43-46页 |
| ·器件的切片与封装 | 第46-47页 |
| 第五章 器件的测试 | 第47-54页 |
| ·测试平台的搭建 | 第47页 |
| ·固定光功率下响应度测试 | 第47-48页 |
| ·变光强条件下光生电流测试 | 第48-49页 |
| ·脉冲光响应条件下器件测试 | 第49-50页 |
| ·器件的滤波性能测试 | 第50-54页 |
| 第六章 光生电流倍增原理的讨论 | 第54-58页 |
| ·光生电流倍增原理解释 | 第54-55页 |
| ·噪声分析 | 第55-58页 |
| ·散粒噪声 | 第56页 |
| ·电阻热噪声 | 第56页 |
| ·1/f噪声 | 第56-58页 |
| 第七章 结论 | 第58-60页 |
| ·全文工作总结 | 第58页 |
| ·下一步工作地设想 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 硕士期间参与发表的论文 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
