| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-34页 |
| ·研究背景及意义 | 第10-11页 |
| ·巨磁阻抗效应的理论研究概述 | 第11-12页 |
| ·巨磁阻抗效应采用的几种典型材料及其特点 | 第12-14页 |
| ·非晶丝 | 第12-13页 |
| ·非晶薄带 | 第13页 |
| ·非晶薄膜 | 第13页 |
| ·复合结构材料的GMI 效应 | 第13-14页 |
| ·巨磁阻抗效应的影响因素 | 第14-25页 |
| ·磁畴结构对巨磁阻抗行为的影响 | 第14-15页 |
| ·磁导率对GMI 效应的影响 | 第15-16页 |
| ·驱动电流频率与GMI 效应的关系 | 第16-17页 |
| ·外加直流磁场和GMI 的关系 | 第17-18页 |
| ·巨磁阻抗效应和磁各向异性的关系 | 第18-19页 |
| ·巨磁阻抗效应和阻抗测量方式的关系 | 第19-20页 |
| ·巨磁阻抗效应与磁结构的关系 | 第20-22页 |
| ·磁致伸缩系数对GMI 效应的影响 | 第22-23页 |
| ·巨磁阻抗效应和合金的电导率及试样尺寸的关系 | 第23-24页 |
| ·材料表面形貌对GMI 的影响 | 第24-25页 |
| ·铁基纳米微晶材料及其巨磁阻抗效应 | 第25-27页 |
| ·纳米合金的处理工艺 | 第27-28页 |
| ·等温退火处理 | 第27-28页 |
| ·直流焦耳处理 | 第28页 |
| ·脉冲电流退火处理 | 第28页 |
| ·国内外研究现状 | 第28-30页 |
| ·巨磁阻抗效应的应用与开发前景 | 第30-31页 |
| ·课题研究目的及内容 | 第31-32页 |
| 参考文献 | 第32-34页 |
| 第二章 纳米晶FeCuNbSiB 带材的磁学性能研究 | 第34-49页 |
| ·常用的磁性材料 | 第34-36页 |
| ·Fe 基非晶纳米晶合金带材磁性材料的磁滞回线测量 | 第36-40页 |
| ·Fe 基非晶纳米晶带材磁性材料高频磁导率的测量 | 第40-46页 |
| ·测量原理 | 第40-42页 |
| ·测试样品的制作工艺 | 第42-43页 |
| ·高频磁导率测试结果分析 | 第43-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 第三章 纳米晶FeCuNbSiB 带材微型化MEMS 工艺 | 第49-64页 |
| ·基本工艺过程 | 第49-57页 |
| ·光刻工艺 | 第50-53页 |
| ·微电镀工艺 | 第53页 |
| ·溅射沉积 | 第53-54页 |
| ·刻蚀工艺 | 第54-55页 |
| ·聚酰亚胺工艺 | 第55-57页 |
| ·工艺检测 | 第57页 |
| ·Fe 基纳米晶单层及五层带材结构的制作工艺流程 | 第57-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-64页 |
| 第四章 纳米晶FeCuNbSiB 带材单层结构巨磁阻抗效应研究 | 第64-82页 |
| ·实验 | 第64-66页 |
| ·原材料及设备 | 第64-65页 |
| ·阻抗测量设备 | 第65-66页 |
| ·结果和讨论 | 第66-80页 |
| ·纳米晶FeCuNbSiB 带材单层结构GMI 效应与退火温度的关系 | 第66-67页 |
| ·直线型纳米晶单层带材GMI 效应研究 | 第67-72页 |
| ·曲折型单层纳米晶带材GMI 效应研究 | 第72-78页 |
| ·纳米晶FeCuNbSiB 带材单层结构GMI 效应与尺寸的关系 | 第78-80页 |
| ·结论 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-82页 |
| 第五章 纳米晶FeCuNbSiB 带材五层结构巨磁阻抗效应研究 | 第82-91页 |
| ·样品制备 | 第82-83页 |
| ·巨磁阻抗效应测量 | 第83页 |
| ·实验结果与讨论 | 第83-89页 |
| ·直线型五层结构GMI 效应研究 | 第83-85页 |
| ·曲折型五层结构与单层结构的GMI 效应比较研究 | 第85-89页 |
| ·结论 | 第89-90页 |
| 参考文献 | 第90-91页 |
| 第六章 结论与展望 | 第91-93页 |
| 致谢 | 第93-94页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第94页 |
