共腔自组织相干合成技术
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
目录 | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第7-13页 |
·激光束相干合成技术的概念与历史背景 | 第7-8页 |
·激光束相干合成的发展现状 | 第8-13页 |
第二章 激光束相干合成的技术方案 | 第13-25页 |
·闭环有源相位控制 | 第13-14页 |
·自组织锁相激光器阵列 | 第14-24页 |
·工作物质间倏逝波的耦合 | 第14页 |
·衍射耦合 | 第14-22页 |
·维纳-迈克耳逊型复合腔耦合 | 第22-24页 |
·小结 | 第24-25页 |
第三章 共腔自组织相干合成技术方案分析 | 第25-50页 |
·方案设计 | 第25页 |
·工作物质阵列 | 第25-35页 |
·光源的排布方式对相干合成效果的影响 | 第27-29页 |
·光源的数量对相干合成效果的影响 | 第29-31页 |
·光源之间的间距对相干合成效果的影响 | 第31-33页 |
·光源之间的相位关系对相干合成效果的影响 | 第33-34页 |
·本模型中设计的工作物质排列方式 | 第34-35页 |
·选模光纤的选择 | 第35-48页 |
·光纤的结构和种类 | 第35-36页 |
·单模光纤 | 第36-38页 |
·光子晶体光纤 | 第38-39页 |
·光子晶体光纤理论分析与模拟 | 第39-48页 |
·锁模器件--半导体可饱和吸收镜(SESAM) | 第48-50页 |
第四章 总结 | 第50-51页 |
致谢 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-53页 |