共腔自组织相干合成技术
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| ·激光束相干合成技术的概念与历史背景 | 第7-8页 |
| ·激光束相干合成的发展现状 | 第8-13页 |
| 第二章 激光束相干合成的技术方案 | 第13-25页 |
| ·闭环有源相位控制 | 第13-14页 |
| ·自组织锁相激光器阵列 | 第14-24页 |
| ·工作物质间倏逝波的耦合 | 第14页 |
| ·衍射耦合 | 第14-22页 |
| ·维纳-迈克耳逊型复合腔耦合 | 第22-24页 |
| ·小结 | 第24-25页 |
| 第三章 共腔自组织相干合成技术方案分析 | 第25-50页 |
| ·方案设计 | 第25页 |
| ·工作物质阵列 | 第25-35页 |
| ·光源的排布方式对相干合成效果的影响 | 第27-29页 |
| ·光源的数量对相干合成效果的影响 | 第29-31页 |
| ·光源之间的间距对相干合成效果的影响 | 第31-33页 |
| ·光源之间的相位关系对相干合成效果的影响 | 第33-34页 |
| ·本模型中设计的工作物质排列方式 | 第34-35页 |
| ·选模光纤的选择 | 第35-48页 |
| ·光纤的结构和种类 | 第35-36页 |
| ·单模光纤 | 第36-38页 |
| ·光子晶体光纤 | 第38-39页 |
| ·光子晶体光纤理论分析与模拟 | 第39-48页 |
| ·锁模器件--半导体可饱和吸收镜(SESAM) | 第48-50页 |
| 第四章 总结 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-53页 |