| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 目录 | 第10-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-23页 |
| ·SnO_2及其掺杂材料的结构特点 | 第13-16页 |
| ·纯二氧化锡结构特点 | 第13-14页 |
| ·氧化铟锡(ITO)结构特点 | 第14-16页 |
| ·SnO_2基材料的研究现状 | 第16-17页 |
| ·Sno_2基材料的制备方法 | 第17-19页 |
| ·本文的研究意义与目的 | 第19-20页 |
| 参考文献 | 第20-23页 |
| 第二章 分析方法 | 第23-33页 |
| ·X射线衍射分析 | 第23-27页 |
| ·AFM分析 | 第27页 |
| ·四探针法测量分析 | 第27-28页 |
| ·霍尔效应分析 | 第28-31页 |
| 参考文献 | 第31-33页 |
| 第三章 快速热退火及添加剂对SnO_2薄膜的影响 | 第33-51页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·快速热退火对SnO_2薄膜性质的影响 | 第33-41页 |
| ·实验设计 | 第33-34页 |
| ·结构分析 | 第34-36页 |
| ·表面形貌分析 | 第36-39页 |
| ·光学性质分析 | 第39-41页 |
| ·添加聚乙二醇对SnO_2薄膜性质的影响 | 第41-45页 |
| ·实验设计 | 第41页 |
| ·结构分析 | 第41-45页 |
| ·光学性质分析 | 第45页 |
| ·添加剂丙三醇(GCR)和氨水对SnO_2薄膜性质的影响 | 第45-48页 |
| ·本章小结 | 第48页 |
| 参考文献 | 第48-51页 |
| 第四章 溶胶-凝胶法制备Sn_(1-x)Fe_xO_(2-δ)及其性质研究 | 第51-63页 |
| ·引言 | 第51-52页 |
| ·实验设计 | 第52页 |
| ·退火温度和铁含量对微结构的影响 | 第52-54页 |
| ·XPS分析 | 第54-56页 |
| ·退火温度和铁含量对磁性的影响 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-63页 |
| 第五章 脉冲激光沉积法制备氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜及其性质研究 | 第63-87页 |
| ·引言 | 第63-64页 |
| ·实验设计 | 第64-65页 |
| ·氧气氛下沉积氧化铟锡薄膜的性质 | 第65-70页 |
| ·氧压对薄膜微结构性质的影响 | 第65-66页 |
| ·氧压对薄膜光学和电学性质的影响 | 第66-68页 |
| ·衬底温度对薄膜微结构的影响 | 第68-70页 |
| ·衬底温度对薄膜光学和电学性质的影响 | 第70页 |
| ·氩气氛下沉积薄膜的微结构、光学及电学性质 | 第70-81页 |
| ·衬底温度对薄膜微结构的影响 | 第70-73页 |
| ·氩压对薄膜微结构的影响 | 第73页 |
| ·衬底温度对电学性质的影响 | 第73-77页 |
| ·氩压对薄膜电学性质的影响 | 第77-80页 |
| ·测量温度(低温环境)对薄膜电学性质的影响 | 第80-81页 |
| ·本章小结 | 第81页 |
| 参考文献 | 第81-87页 |
| 第六章 脉冲激光沉积Fe:SnO_2纳米薄膜及其性质的研究 | 第87-119页 |
| ·引言 | 第87-89页 |
| ·实验过程 | 第89页 |
| ·纯SnO_2纳米薄膜的性质研究 | 第89-93页 |
| ·Fe:SnO_2纳米薄膜的微结构研究 | 第93-99页 |
| ·表面化学元素分析 | 第99-102页 |
| ·氧压对Fe:SnO_2薄膜结构的影响 | 第102-108页 |
| ·衬底温度对Fe:SnO_2薄膜微结构的影响 | 第108-110页 |
| ·磁学性质分析 | 第110-113页 |
| ·本章小结 | 第113-114页 |
| 参考文献 | 第114-119页 |
| 第七章 总结 | 第119-122页 |
| 发表论文情况 | 第122-123页 |
| 致谢 | 第123-124页 |
