| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4页 |
| 第一章 文献综述 | 第7-25页 |
| 1.1 三氯氢硅的性质 | 第7-8页 |
| 1.1.1 三氯氢硅的物理性质 | 第7-8页 |
| 1.1.2 三氯氢硅的化学性质 | 第8页 |
| 1.2 三氯氢硅的用途 | 第8-10页 |
| 1.2.1 生产有机硅 | 第9页 |
| 1.2.2 生产多晶硅 | 第9-10页 |
| 1.3 三氯氢硅市场现状 | 第10-11页 |
| 1.4 三氯氢硅的下游市场现状 | 第11-15页 |
| 1.4.1 多晶硅产业的市场现状 | 第11-14页 |
| 1.4.2 有机硅产业的市场现状 | 第14-15页 |
| 1.5 三氯氢硅生产技术概述 | 第15-19页 |
| 1.5.1 热氢化法 | 第15-16页 |
| 1.5.2 冷氢化法 | 第16-17页 |
| 1.5.3 等离子体法 | 第17-18页 |
| 1.5.4 直接氯化法(硅氢氯化法) | 第18-19页 |
| 1.6 主要三氯氢硅合成工艺流程概述 | 第19-20页 |
| 1.6.1 直接氯化反应过程 | 第19页 |
| 1.6.2 冷氢化反应过程 | 第19-20页 |
| 1.7 三氯氢硅合成过程的研究现状 | 第20-21页 |
| 1.8 化工模拟技术发展概况及HSC Chemistry简介 | 第21-22页 |
| 1.8.1 化工模拟技术发展概况 | 第21-22页 |
| 1.8.2 HSC Chemistry简介 | 第22页 |
| 1.9 本课题研究的目的及主要内容 | 第22-25页 |
| 1.9.1 本课题研究的目的及意义 | 第22-23页 |
| 1.9.2 本课题研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 三氯氢硅合成体系分析 | 第25-29页 |
| 2.1 “硅-氢-氯”体系分析 | 第25-26页 |
| 2.2 直接氯化过程主要反应 | 第26页 |
| 2.3 冷氢化工艺主要反应 | 第26-29页 |
| 第三章 直接氯化工艺模拟分析 | 第29-45页 |
| 3.1 直接氯化工艺热力学计算 | 第29页 |
| 3.2 影响系统组成的因素分析 | 第29-32页 |
| 3.3 硅粉单程转化率影响因素分析 | 第32-36页 |
| 3.4 三氯氢硅选择性分析 | 第36-40页 |
| 3.5 氢气的影响分析 | 第40-42页 |
| 3.6 本章小结 | 第42-45页 |
| 第四章 冷氢化工艺模拟分析 | 第45-57页 |
| 4.1 冷氢化反应工艺的热力学计算 | 第45页 |
| 4.2 影响系统组成的因素分析 | 第45-49页 |
| 4.3 四氯化硅单程转化率分析 | 第49-52页 |
| 4.4 三氯氢硅产率分析 | 第52-55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 工业化生产装置影响因素及其改进 | 第57-69页 |
| 5.1 计算数据对比分析 | 第57-59页 |
| 5.2 实验装置及原料 | 第59-60页 |
| 5.3 实验样品的分析检测方法 | 第60-61页 |
| 5.4 实验结果分析 | 第61-63页 |
| 5.5 优化改造效果验证 | 第63-67页 |
| 5.6 本章小结 | 第67-69页 |
| 第六章 结论 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第75-77页 |
| 附录A | 第77-82页 |
| 附录B | 第82-86页 |
| 致谢 | 第86页 |