| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第12-15页 |
| 1.1.1 课题研究背景 | 第12-13页 |
| 1.1.2 课题研究意义 | 第13-15页 |
| 1.2 光学元件的抛光加工技术概述 | 第15-19页 |
| 1.2.1 应力盘抛光技术 | 第15-16页 |
| 1.2.2 磁流变抛光技术 | 第16-17页 |
| 1.2.3 数控小工具抛光技术 | 第17-18页 |
| 1.2.4 气囊抛光技术 | 第18页 |
| 1.2.5 快速抛光技术 | 第18-19页 |
| 1.3 化学机械抛光技术的去除模型研究进展 | 第19-23页 |
| 1.3.1 Preston公式及修正模型 | 第20页 |
| 1.3.2 化学作用机制 | 第20-21页 |
| 1.3.3 流体润滑机制 | 第21页 |
| 1.3.4 原子/分子去除机制 | 第21-22页 |
| 1.3.5 磨粒磨损机制 | 第22-23页 |
| 1.4 论文主要的研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 快速抛光运动模型 | 第24-43页 |
| 2.1 快速抛光系统变量 | 第24-25页 |
| 2.2 快速抛光运动方式 | 第25-27页 |
| 2.3 快速抛光相对运动模型 | 第27-37页 |
| 2.3.1 光学元件无移动的运动模型 | 第27-31页 |
| 2.3.2 光学元件匀速横向移动的运动模型 | 第31-34页 |
| 2.3.3 光学元件变速横向移动的运动模型 | 第34-37页 |
| 2.4 快速抛光光学元件半径上各点的相对速度分析 | 第37-39页 |
| 2.5 快速抛光光学元件偏心距对材料去除率影响 | 第39-41页 |
| 2.6 本章小结 | 第41-43页 |
| 第三章 快速抛光去除函数的建立 | 第43-60页 |
| 3.1 快速抛光材料去除原理 | 第43页 |
| 3.2 抛光区速度分布模型建立 | 第43-48页 |
| 3.2.1 光学元件无移动时速度分布图的建立 | 第43-46页 |
| 3.2.2 光学元件匀速横向移动时速度分布图的建立 | 第46-47页 |
| 3.2.3 光学元件变速横向移动时速度分布图的建立 | 第47-48页 |
| 3.3 快速抛光接触区压力分布模型 | 第48-54页 |
| 3.4 快速抛光去除函数模型的建立 | 第54-59页 |
| 3.4.1 光学元件无移动时去除函数的建立 | 第54-56页 |
| 3.4.2 光学元件匀速横向移动时去除函数的建立 | 第56-57页 |
| 3.4.3 光学元件变速横向移动时去除函数的建立 | 第57-59页 |
| 3.5 本章小结 | 第59-60页 |
| 第四章 快速抛光材料去除模型探究 | 第60-75页 |
| 4.1 快速抛光材料去除机理 | 第60-61页 |
| 4.2 快速抛光材料去除模型的建立 | 第61-65页 |
| 4.3 快速抛光材料去除模型验证 | 第65-73页 |
| 4.3.1 验证流程 | 第65-66页 |
| 4.3.2 实验规划及样品制备 | 第66-70页 |
| 4.3.3 实验结果与分析 | 第70-73页 |
| 4.4 本章小结 | 第73-75页 |
| 第五章 快速抛光改善光学元件面型方法探究 | 第75-91页 |
| 5.1 光学元件边缘效应及原因 | 第75-76页 |
| 5.2 光学元件表面应力峰值和最低值的影响因素仿真探究 | 第76-85页 |
| 5.2.1 补偿片分布方式及个数对接触应力的影响 | 第77-80页 |
| 5.2.2 补偿片与光学元件之间距离对接触应力的影响 | 第80-85页 |
| 5.3 光学元件表面应力峰值和最低值的影响因素实验探究 | 第85-90页 |
| 5.4 本章小结 | 第90-91页 |
| 第六章 总结与展望 | 第91-93页 |
| 6.1 总结 | 第91-92页 |
| 6.2 展望 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-100页 |
| 致谢 | 第100-101页 |
| 硕士期间科研成果 | 第101页 |
