| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-22页 |
| ·镁合金的理化性质及应用 | 第11-14页 |
| ·物理性能 | 第11-12页 |
| ·化学性能 | 第12页 |
| ·加工特性 | 第12-13页 |
| ·应用领域 | 第13-14页 |
| ·国内外镁合金氧化工艺及研究 | 第14-18页 |
| ·Dow17与HAE工艺 | 第14-15页 |
| ·其它阳极氧化工艺 | 第15-16页 |
| ·阳极氧化电解液及电源波形 | 第16-17页 |
| ·微弧氧化工艺 | 第17-18页 |
| ·镁合金其它表面处理方法 | 第18-19页 |
| ·化学转化膜工艺 | 第18页 |
| ·金属涂层处理 | 第18-19页 |
| ·其它工艺 | 第19页 |
| ·火花放电模型 | 第19-20页 |
| ·镁合金耐蚀性检测分析方法 | 第20页 |
| ·课题选择的意义和内容 | 第20-22页 |
| 第2章 交流电对镁合金氧化处理的影响 | 第22-32页 |
| ·实验部分 | 第22-24页 |
| ·实验材料 | 第22页 |
| ·实验设备及药品 | 第22-23页 |
| ·氧化膜层的制备 | 第23-24页 |
| ·膜层性能检测 | 第24页 |
| ·膜层外观及形貌 | 第24页 |
| ·膜层厚度 | 第24页 |
| ·显微硬度 | 第24页 |
| ·耐蚀性能评价 | 第24页 |
| ·结果与讨论 | 第24-31页 |
| ·电位-时间(U-t)、电流密度-时间(j-t)特征曲线 | 第25页 |
| ·复合电解液组分对膜层性能的影响 | 第25-27页 |
| ·基础液对膜层性能的影响 | 第26页 |
| ·Na_2SiO_3对氧化膜性能的影响 | 第26-27页 |
| ·有机胺对膜层性能的影响 | 第27页 |
| ·交流电压对膜层性能的影响 | 第27-28页 |
| ·温度对膜层性能的影响 | 第28-29页 |
| ·其它工艺参数对膜层性能的影响 | 第29-30页 |
| ·表面SEM分析 | 第30页 |
| ·电化学检测结果分析 | 第30-31页 |
| ·小结 | 第31-32页 |
| 第3章 三角波对镁合金氧化处理的影响 | 第32-38页 |
| ·实验部分 | 第32-33页 |
| ·实验材料 | 第32页 |
| ·实验设备及药品 | 第32页 |
| ·氧化膜层的制备 | 第32-33页 |
| ·膜层性能检测 | 第33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-36页 |
| ·电位-时间(U-t)、电流密度-时间(j-t)特征曲线 | 第33-34页 |
| ·电解液组成及最佳浓度配比 | 第34页 |
| ·极间距对膜层性能的影响 | 第34-35页 |
| ·表面SEM分析 | 第35-36页 |
| ·电化学检测结果分析 | 第36页 |
| ·小结 | 第36-38页 |
| 第4章 三种波形对镁合金氧化处理的对比 | 第38-46页 |
| ·实验部分 | 第38页 |
| ·电解液选取及氧化膜的制备 | 第38页 |
| ·膜层性能检测 | 第38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-45页 |
| ·三种电源的波形图像 | 第38-39页 |
| ·电位-时间(U-t)、电流密度-时间(j-t)特征曲线 | 第39-40页 |
| ·不同波形氧化电压对膜层性能的影响 | 第40-43页 |
| ·表面SEM分析 | 第43-44页 |
| ·电化学检测结果分析 | 第44-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-51页 |
| 附录A (攻读学位期间所发表的学术论文目录) | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52页 |
