| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-32页 |
| 1.1 课题研究背景与意义 | 第10-17页 |
| 1.1.1 X射线成像技术的发展 | 第10-11页 |
| 1.1.2 X射线光栅相位衬度成像 | 第11-14页 |
| 1.1.3 X射线光栅相衬成像装置 | 第14-15页 |
| 1.1.4 X射线光栅相衬成像存在的问题和解决思路 | 第15-17页 |
| 1.2 X射线相衬成像光栅的研究进展 | 第17-24页 |
| 1.2.1 LIGA技术 | 第17-19页 |
| 1.2.2 硅体微加工技术 | 第19-24页 |
| 1.3 本论文研究内容和结构安排 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-32页 |
| 第2章 大尺寸大高宽比吸收光栅光刻工艺研究 | 第32-68页 |
| 2.1 合肥X射线光栅相衬成像技术 | 第32-35页 |
| 2.1.1 光栅相衬成像平台 | 第32-33页 |
| 2.1.2 光栅的参数设计 | 第33-35页 |
| 2.2 光栅的制作工艺 | 第35-41页 |
| 2.2.1 SU-8光刻胶的应用 | 第35-37页 |
| 2.2.2 吸收光栅制作工艺 | 第37-41页 |
| 2.2.3 实验所需材料与仪器 | 第41页 |
| 2.3 SU-8紫外曝光工艺研究 | 第41-46页 |
| 2.3.1 线宽的精确控制 | 第41-46页 |
| 2.3.2 大尺寸光栅结构曝光均匀性 | 第46页 |
| 2.4 SU-8显影工艺研究 | 第46-58页 |
| 2.5 大高宽比光栅结构的研究 | 第58-63页 |
| 2.5.1 大高宽比光栅结构的缺陷成因 | 第58-59页 |
| 2.5.2 大高宽比结构光栅的实现 | 第59-63页 |
| 2.6 本章小结 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 第3章 大尺寸大高宽比吸收光栅电镀工艺研究 | 第68-88页 |
| 3.1 电镀金工艺研究 | 第68-73页 |
| 3.1.1 电镀金工艺的选择 | 第68-69页 |
| 3.1.2 实验方法及材料 | 第69-71页 |
| 3.1.3 全水环境电镀 | 第71-72页 |
| 3.1.4 电镀速率与镀层厚度计算 | 第72-73页 |
| 3.2 镀层内应力的研究 | 第73-81页 |
| 3.2.1 镀层内应力的产生机理 | 第74-75页 |
| 3.2.2 镀层内应力的影响因素 | 第75-76页 |
| 3.2.3 镀层内应力的测量 | 第76-77页 |
| 3.2.4 电流密度对镀层内应力的影响 | 第77-79页 |
| 3.2.5 镀层结构分析 | 第79-81页 |
| 3.3 大高宽比微结构电镀工艺研究 | 第81-83页 |
| 3.4 大尺寸微结构电镀工艺研究 | 第83-84页 |
| 3.5 本章小结 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-88页 |
| 第四章 大尺寸大高宽比吸收光栅的检测 | 第88-104页 |
| 4.1 X射线吸收光栅的检测 | 第88-90页 |
| 4.1.1 X射线吸收光栅检测方法的选择 | 第88页 |
| 4.1.2 微结构的常用检测方法 | 第88-89页 |
| 4.1.3 X射线吸收光栅的检测方法 | 第89-90页 |
| 4.2 大尺寸大高宽比光栅的检测方法 | 第90-100页 |
| 4.2.1 大高宽比微结构的固定 | 第91-92页 |
| 4.2.2 大高宽比微结构的检测方法 | 第92-100页 |
| 4.2.3 基于X射线吸收衬度成像的检测 | 第100页 |
| 4.3 本章小结 | 第100-102页 |
| 参考文献 | 第102-104页 |
| 第五章 总结与展望 | 第104-106页 |
| 5.1 总结 | 第104-105页 |
| 5.2 展望 | 第105-106页 |
| 致谢 | 第106-107页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第107页 |