| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-22页 |
| ·射频感应耦合等离子体的特点及基本原理 | 第9-16页 |
| ·射频感应耦合等离子体的特点 | 第10页 |
| ·射频感应耦合等离子体源的基本原理 | 第10-14页 |
| ·射频感应耦合等离子体的匹配网络及天线 | 第14-16页 |
| ·溅射沉积技术及发展和应用 | 第16-21页 |
| ·溅射现象 | 第16页 |
| ·典型溅射方法 | 第16-19页 |
| ·离子辅助溅射 | 第19-20页 |
| ·溅射技术的应用 | 第20-21页 |
| ·本工作的主要研究内容 | 第21-22页 |
| 2 射频感应耦合等离子体辅助非平衡磁控溅射放电的产生装置 | 第22-27页 |
| ·实验装置 | 第22-23页 |
| ·非平衡磁控溅射放电的伏安特性 | 第23-24页 |
| ·射频感应耦合非平衡磁控溅射放电特性曲线 | 第24-26页 |
| ·射频功率对放电参数的影响 | 第24-25页 |
| ·气压对放电参数的影响 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 3 ICP辅助非平衡磁控溅射等离子体的Langmuir探针诊断 | 第27-47页 |
| ·Langmuir探针诊断 | 第27-35页 |
| ·Langmuir探针工作原理 | 第27-29页 |
| ·Langmuir探针的I-V特性曲线 | 第29-31页 |
| ·去除射频信号干扰的Langmuir探针 | 第31-34页 |
| ·Laframboise理论 | 第34-35页 |
| ·Langmuir探针对ICP辅助非平衡磁控溅射等离子体参数测量 | 第35-45页 |
| ·ICP和非平衡磁控溅射等离子体的相互关系 | 第35-39页 |
| ·电子能量分布函数和溅射功率的关系 | 第39-41页 |
| ·等离子体参数在轴向的空间分布 | 第41-43页 |
| ·ICP辅助非平衡磁控溅射的径向均匀性 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 4 ICP辅助非平衡磁控溅射等离子体的发射光谱研究 | 第47-58页 |
| ·原子发射光谱介绍 | 第47-52页 |
| ·光谱诊断简介 | 第47页 |
| ·发射光谱概述 | 第47-49页 |
| ·光谱谱线的分析 | 第49-52页 |
| ·ICP辅助非平衡磁控溅射放电的发射光谱诊断 | 第52-55页 |
| ·发射光谱诊断的模式跳变 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-67页 |
