| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 研究工作背景 | 第11-16页 |
| 1.1.1 研究目的 | 第11-12页 |
| 1.1.2 研究意义 | 第12页 |
| 1.1.3 国内外发展现状 | 第12-16页 |
| 1.2 氧化锌制备及加工工艺研究 | 第16-17页 |
| 1.2.1 磁控溅射法 | 第16页 |
| 1.2.2 分子束外延法 | 第16页 |
| 1.2.3 模板合成法 | 第16-17页 |
| 1.2.4 水热法 | 第17页 |
| 1.2.5 化学气相沉积法 | 第17页 |
| 1.3 本文主要工作与结构安排 | 第17-18页 |
| 1.4 小结 | 第18-19页 |
| 第二章 纳米等离子体激光器理论及模拟仿真 | 第19-29页 |
| 2.1 半导体激光器原理 | 第19-22页 |
| 2.1.1 能带理论 | 第19页 |
| 2.1.2 量子跃迁与受激辐射 | 第19-20页 |
| 2.1.3 激光器谐振腔的尺寸极限 | 第20-22页 |
| 2.2 表面等离子体与光场互作用机理 | 第22-25页 |
| 2.2.1 表面等离子体基本原理 | 第22-24页 |
| 2.2.2 半导体纳米线-金属膜层谐振腔的模式增益和光限制因子 | 第24-25页 |
| 2.3 基于表面等离子体光学谐振腔波导仿真 | 第25-28页 |
| 2.3.1 建模分析 | 第25-26页 |
| 2.3.2 仿真结果及分析 | 第26-27页 |
| 2.3.3 纳米线阵列光场叠加仿真 | 第27-28页 |
| 2.4 小结 | 第28-29页 |
| 第三章 氧化锌异质结纳米线阵列的生长工艺研究 | 第29-40页 |
| 3.1 氧化锌掺杂问题 | 第29-30页 |
| 3.1.1 ZnO掺杂原理 | 第29页 |
| 3.1.2 ZnO的自然掺杂及p型掺杂 | 第29-30页 |
| 3.2 氧化锌纳米线制备 | 第30-38页 |
| 3.2.1 n型GaN衬底上生长p型ZnO纳米线工艺研究 | 第31-35页 |
| 3.2.1.1 衬底距离锌源位置的距离对纳米线形貌的影响 | 第31-32页 |
| 3.2.1.2 氮气和氧气比例关系对纳米线形貌影响 | 第32-35页 |
| 3.2.1.3 升温速率对纳米线形貌影响 | 第35页 |
| 3.2.2 p型GaN衬底上生长n型ZnO纳米线工艺研究 | 第35-37页 |
| 3.2.3 氧化锌成膜原因分析 | 第37页 |
| 3.2.4 n-ZnO/p-GaN结构的pn结载流子测试 | 第37-38页 |
| 3.3 小结 | 第38-40页 |
| 第四章 纳米等离子体激光器结构设计及制作 | 第40-46页 |
| 4.1 规则阵列氧化锌纳米线的制备 | 第40-43页 |
| 4.1.1 电子束光刻工艺制备规则圆形孔洞阵列 | 第41-42页 |
| 4.1.2 紫外光刻工艺规制备圆形孔洞阵列 | 第42-43页 |
| 4.1.3 规则阵列衬底上制备氧化锌纳米线 | 第43页 |
| 4.2 纳米等离子体激光器制作流程 | 第43-45页 |
| 4.3 小结 | 第45-46页 |
| 第五章 纳米等离子体激光器光电特性研究 | 第46-60页 |
| 5.1 测试平台及仪器设备 | 第46-47页 |
| 5.1.1 光谱测试平台 | 第46-47页 |
| 5.1.2 电激励测试平台 | 第47页 |
| 5.2 光泵浦纳米等离子体激光器的激光特性研究 | 第47-49页 |
| 5.3 电致发光激光参数分析 | 第49-59页 |
| 5.3.1 帕尔贴制冷元件 | 第50-51页 |
| 5.3.2 I-V特性曲线 | 第51-52页 |
| 5.3.3 电泵浦发光光谱测试 | 第52-53页 |
| 5.3.4 电泵浦发光的电流-功率曲线 | 第53-54页 |
| 5.3.5 电泵浦发光偏振特性测试 | 第54-55页 |
| 5.3.6 帕尔贴元件制冷效果对比 | 第55-56页 |
| 5.3.7 平凸透镜光束合成准直测试 | 第56-59页 |
| 5.4 小结 | 第59-60页 |
| 第六章 总结与展望 | 第60-62页 |
| 6.1 本论文主要贡献 | 第60-61页 |
| 6.2 下一步工作展望 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第66-67页 |
