| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 多弧离子镀技术 | 第11-13页 |
| 1.2.1 多弧离子镀原理 | 第11-13页 |
| 1.2.2 多弧离子镀特点及应用 | 第13页 |
| 1.3 Al Cr N薄膜研究现状 | 第13-15页 |
| 1.4 本文主要研究内容 | 第15-17页 |
| 第2章 试验设备与试验方法 | 第17-23页 |
| 2.1 试验设备 | 第17页 |
| 2.2 试验材料 | 第17-18页 |
| 2.3 试验工艺流程 | 第18-20页 |
| 2.3.1 试样预处理 | 第18页 |
| 2.3.2 试样炉内清洗 | 第18-19页 |
| 2.3.3 沉积Cr和Cr N过渡层 | 第19页 |
| 2.3.4 沉积Cr Al N薄膜 | 第19-20页 |
| 2.4 薄膜组织结构及性能分析方法 | 第20-23页 |
| 2.4.1 扫描电子显微镜 | 第20-21页 |
| 2.4.2 原子力显微镜 | 第21页 |
| 2.4.3 X射线衍射 | 第21页 |
| 2.4.4 洛氏硬度测试 | 第21页 |
| 2.4.5 划痕测试 | 第21页 |
| 2.4.6 显微硬度测试 | 第21页 |
| 2.4.7 摩擦磨损测试 | 第21-22页 |
| 2.4.8 电化学腐蚀测试 | 第22-23页 |
| 第3章 磁场增强Al Cr合金靶材的放电特性 | 第23-28页 |
| 3.1 线圈电流对Al Cr靶材放电特性影响 | 第23-24页 |
| 3.2 工作气压对Al Cr靶材放电特性影响 | 第24-25页 |
| 3.3 Al Cr靶材电流对放电特性影响 | 第25-26页 |
| 3.4 基体负偏压对Al Cr靶材放电特性影响 | 第26页 |
| 3.5 本章小结 | 第26-28页 |
| 第4章 磁场增强Cr Al N薄膜制备及组织结构分析 | 第28-50页 |
| 4.1 膜层表面形貌 | 第28-35页 |
| 4.1.1 不同线圈电流下膜层表面形貌 | 第28-29页 |
| 4.1.2 不同氮气压下膜层表面形貌 | 第29-30页 |
| 4.1.3 不同转速下膜层表面形貌 | 第30-31页 |
| 4.1.4 不同基体偏压下膜层表面形貌 | 第31-33页 |
| 4.1.5 不同Al Cr靶材电流下膜层表面形貌 | 第33-34页 |
| 4.1.6 不同Cr靶材电流下膜层表面形貌 | 第34-35页 |
| 4.2 膜层截面形貌 | 第35-43页 |
| 4.2.1 不同线圈电流下膜层截面形貌 | 第35-36页 |
| 4.2.2 不同氮气压下膜层截面形貌 | 第36-37页 |
| 4.2.3 不同转速下膜层截面形貌 | 第37-38页 |
| 4.2.4 不同基体偏压下膜层截面形貌 | 第38-40页 |
| 4.2.5 不同Al Cr靶材电流下膜层截面形貌 | 第40-41页 |
| 4.2.6 不同Cr靶材电流下膜层截面形貌 | 第41-43页 |
| 4.3 膜层相结构 | 第43-48页 |
| 4.3.1 不同线圈电流下膜层相结构 | 第43页 |
| 4.3.2 不同氮气压下膜层相结构 | 第43-44页 |
| 4.3.3 不同转速下膜层相结构 | 第44-45页 |
| 4.3.4 不同偏压下膜层相结构 | 第45-46页 |
| 4.3.5 不同Al Cr靶材电流下膜层相结构 | 第46-47页 |
| 4.3.6 不同Cr靶材电流下膜层相结构 | 第47-48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第5章 磁场增强Cr Al N薄膜性能研究 | 第50-77页 |
| 5.1 膜层结合强度分析 | 第50-58页 |
| 5.1.1 不同线圈电流下膜层结合强度 | 第50-52页 |
| 5.1.2 不同氮气压下膜层结合强度 | 第52-53页 |
| 5.1.3 不同转速下膜层结合强度 | 第53-54页 |
| 5.1.4 不同基体偏压下膜层结合强度 | 第54-55页 |
| 5.1.5 不同Al Cr靶材电流下膜层结合强度 | 第55-57页 |
| 5.1.6 不同Cr靶材电流下膜层结合强度 | 第57-58页 |
| 5.2 膜层显微硬度 | 第58-60页 |
| 5.3 摩擦磨损性能研究 | 第60-70页 |
| 5.3.1 不同线圈电流下膜层摩擦磨损性能 | 第61-63页 |
| 5.3.2 不同氮气压下膜层摩擦磨损性能 | 第63-64页 |
| 5.3.3 不同转速下膜层摩擦磨损性能 | 第64-65页 |
| 5.3.4 不同基体偏压下膜层摩擦磨损性能 | 第65-67页 |
| 5.3.5 不同Al Cr靶材电流下膜层摩擦磨损性能 | 第67-69页 |
| 5.3.6 不同Cr靶材电流下膜层摩擦磨损性能 | 第69-70页 |
| 5.4 膜层耐腐蚀性能分析 | 第70-75页 |
| 5.4.1 不同线圈电流下膜层耐腐蚀性能 | 第70-71页 |
| 5.4.2 不同氮气压下膜层耐腐蚀性能 | 第71-72页 |
| 5.4.3 不同转速下膜层耐腐蚀性能 | 第72-73页 |
| 5.4.4 不同基体偏压下膜层耐腐蚀性能 | 第73-74页 |
| 5.4.5 不同Al Cr靶材电流下膜层耐腐蚀性能 | 第74-75页 |
| 5.4.6 不同Cr靶材电流下膜层耐腐蚀性能 | 第75页 |
| 5.5 本章小结 | 第75-77页 |
| 结论 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-84页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第84-86页 |
| 致谢 | 第86页 |
