摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第15-35页 |
1.1 前言 | 第15-16页 |
1.2 碳纳米管的结构及性能 | 第16-20页 |
1.2.1 碳纳米管的结构 | 第16-17页 |
1.2.2 碳纳米管的性能 | 第17-20页 |
1.3 碳纳米管的制备 | 第20-24页 |
1.3.1 电弧放电法 | 第21-22页 |
1.3.2 化学气相沉积法 | 第22-23页 |
1.3.3 激光烧蚀法 | 第23页 |
1.3.4 其他方法 | 第23-24页 |
1.4 碳纳米管的生长机理 | 第24-28页 |
1.4.1 电弧放电法的生长机理 | 第24-25页 |
1.4.2 CVD法的生长机理 | 第25-27页 |
1.4.3 激光烧蚀法机理 | 第27页 |
1.4.4 其他生长机理 | 第27-28页 |
1.5 促进CNTs生长的因素 | 第28-33页 |
1.5.1 水气作用 | 第28-29页 |
1.5.2 O_2和CO_2的作用 | 第29-30页 |
1.5.3 硫的催化作用 | 第30-31页 |
1.5.4 催化剂作用 | 第31-33页 |
1.6 本实验的提出及创新点 | 第33-35页 |
第二章 实验部分 | 第35-43页 |
2.1 实验所用药品及主要仪器 | 第35-37页 |
2.1.1 所用药品 | 第35-36页 |
2.1.2 主要的仪器设备 | 第36-37页 |
2.2 研究内容及方案 | 第37-40页 |
2.2.1 研究内容 | 第37-38页 |
2.2.2 技术方案 | 第38-40页 |
2.3 分析测试及表征手段 | 第40-43页 |
2.3.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第40页 |
2.3.2 透射电子显微镜(TEM) | 第40页 |
2.3.3 高分辨透射电子显微镜(HRTEM) | 第40-41页 |
2.3.4 X射线衍射仪(XRD) | 第41页 |
2.3.5 傅里叶红外光谱仪(FT-IR) | 第41页 |
2.3.6 热重分析仪(TG-DSC) | 第41页 |
2.3.7 拉曼光谱仪(Raman Spectra) | 第41页 |
2.3.8 比表面积及孔分布测试(BET) | 第41页 |
2.3.9 Land充放电仪 | 第41-43页 |
第三章 碳纳米管生长因素研究 | 第43-71页 |
3.1 原料对碳纳米管生长的影响 | 第43-48页 |
3.1.1 不同碳源 | 第43-45页 |
3.1.2 石墨烯片层大小 | 第45-48页 |
3.2 酸化处理时间 | 第48-49页 |
3.3 催化剂的作用 | 第49-57页 |
3.3.1 不同催化剂的选用 | 第49-51页 |
3.3.2 催化剂制备温度 | 第51-53页 |
3.2.3 催化剂与碳源的混料方式 | 第53-55页 |
3.2.4 含碳催化剂对实验的影响 | 第55-57页 |
3.4 炭化温度的影响 | 第57-60页 |
3.4.1 采用GO为碳源在不同温度下炭化 | 第57-59页 |
3.4.2 纳米碳为碳源在不同温度下炭化 | 第59-60页 |
3.5 不同保温的影响 | 第60-62页 |
3.6 水蒸气以及噻吩的影响 | 第62-68页 |
3.6.1 水蒸气 | 第62-64页 |
3.6.2 噻吩 | 第64-68页 |
3.7 小结 | 第68-71页 |
第四章 碳纳米管的生长机理研究 | 第71-85页 |
4.1 碳纳米管的纯化 | 第71-73页 |
4.2 碳纳米管的结构 | 第73-78页 |
4.3 形成机理 | 第78-83页 |
4.4 小结 | 第83-85页 |
第五章 碳纳米管性能 | 第85-95页 |
5.1 热学性能 | 第85-86页 |
5.2 比表面积测试 | 第86-87页 |
5.3 电化学性能 | 第87-93页 |
5.3.1 CNTs的恒流充放电测试 | 第87-88页 |
5.3.2 CNTs的循环伏安测试 | 第88-91页 |
5.3.3 CNTs的循环倍率性能测试 | 第91-93页 |
5.4 小结 | 第93-95页 |
第六章 结论 | 第95-97页 |
参考文献 | 第97-103页 |
致谢 | 第103-105页 |
研究成果 | 第105-107页 |
作者和导师简介 | 第107-108页 |
附件 | 第108-109页 |