| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 注释表 | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 DLC 膜的结构、性能与制备方法 | 第13-17页 |
| 1.2.1 DLC 膜的结构 | 第13-14页 |
| 1.2.2 DLC 膜的性能 | 第14-16页 |
| 1.2.3 DLC 膜的制备方法 | 第16-17页 |
| 1.3 液相电化学制备 DLC 膜研究进展 | 第17-23页 |
| 1.3.1 DLC 膜质量的提高 | 第17-18页 |
| 1.3.2 沉积电压的降低 | 第18-20页 |
| 1.3.3 掺杂 DLC 膜的制备 | 第20-21页 |
| 1.3.4 电化学沉积 DLC 膜反应机理 | 第21-22页 |
| 1.3.5 存在的问题 | 第22-23页 |
| 1.4 本文选题依据及研究内容 | 第23-25页 |
| 1.4.1 选题依据 | 第23页 |
| 1.4.2 研究内容及技术路线 | 第23-25页 |
| 第二章 ITO 玻璃、Si 基底上低电压制备 DLC 膜研究 | 第25-36页 |
| 2.1 引言 | 第25页 |
| 2.2 电化学实验装置设计制作 | 第25-27页 |
| 2.3 ITO 玻璃基底上制备 DLC 膜研究 | 第27-32页 |
| 2.3.1 实验方案 | 第27-28页 |
| 2.3.2 实验结果与讨论 | 第28-32页 |
| 2.4 Si 基底上制备 DLC 膜研究 | 第32-35页 |
| 2.4.1 实验方案 | 第32-33页 |
| 2.4.2 实验结果与讨论 | 第33-35页 |
| 2.5 本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 Cu 基底上低电压制备 DLC 膜研究 | 第36-44页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 不同基底间距制备 DLC 膜研究 | 第36-40页 |
| 3.2.1 实验方案 | 第36-37页 |
| 3.2.2 实验结果与讨论 | 第37-40页 |
| 3.3 加入电解质 KCl 制备 DLC 膜研究 | 第40-43页 |
| 3.3.1 实验方案 | 第40页 |
| 3.3.2 实验结果与讨论 | 第40-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 Cu 掺杂 DLC 膜制备研究 | 第44-55页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 甲醇溶液中 Cu 掺杂 DLC 膜制备研究 | 第44-47页 |
| 4.2.1 实验方案 | 第44-45页 |
| 4.2.2 实验结果与讨论 | 第45-47页 |
| 4.3 乙醇溶液中 Cu 掺杂 DLC 膜制备研究 | 第47-54页 |
| 4.3.1 实验方案 | 第47页 |
| 4.3.2 实验结果与讨论 | 第47-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 Fe、Ni 掺杂 DLC 膜制备研究 | 第55-63页 |
| 5.1 引言 | 第55页 |
| 5.2 实验方案 | 第55-56页 |
| 5.3 实验结果与讨论 | 第56-62页 |
| 5.3.1 电流密度 | 第56页 |
| 5.3.2 扫描电子显微镜（SEM）研究 | 第56-58页 |
| 5.3.3 原子力显微镜（AFM）研究 | 第58-59页 |
| 5.3.4 拉曼光谱（Raman）研究 | 第59-61页 |
| 5.3.5 薄膜摩擦系数测试 | 第61-62页 |
| 5.4 本章小结 | 第62-63页 |
| 第六章 总结与展望 | 第63-65页 |
| 6.1 总结 | 第63-64页 |
| 6.2 展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第72页 |
