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ZnO纳米棒阵列的水热法优化生长及其表征

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
引言第9-10页
1 ZnO 概述第10-16页
    1.1 ZnO 的晶体结构第10-11页
    1.2 ZnO 的性质第11-14页
        1.2.1 光电性质第12-13页
        1.2.2 压电性质第13页
        1.2.3 气敏性质第13页
        1.2.4 压敏性质第13-14页
    1.3 纳米 ZnO 的特性及应用第14-15页
    1.4 ZnO 的掺杂第15-16页
2 ZnO 的制备与表征第16-24页
    2.1 ZnO 制备方法的分类第16-17页
    2.2 ZnO 的制备方法第17-21页
        2.2.1 水热法第17页
        2.2.2 脉冲激光沉积法第17-18页
        2.2.3 溶胶-凝胶法第18页
        2.2.4 化学气相沉积第18-19页
        2.2.5 溅射法第19页
        2.2.6 模板辅助生长法第19-20页
        2.2.7 电化学沉积法第20页
        2.2.8 热蒸发法第20页
        2.2.9 喷雾热解法第20-21页
        2.2.10 分子束外延法第21页
        2.2.11 微乳液法第21页
    2.3 ZnO 的表征手段第21-24页
        2.3.1 X 射线衍射(XRD)第22页
        2.3.2 光致发光光谱(PL)第22页
        2.3.3 扫描电子显微镜(SEM)第22-23页
        2.3.4 透射电子显微镜(TEM)第23页
        2.3.5 拉曼光谱 (Raman)第23页
        2.3.6 电子探针显微镜(EPMA)第23-24页
3 实验部分第24-28页
    3.1 实验药品及仪器第24-25页
        3.1.1 实验仪器第24页
        3.1.2 实验药品第24-25页
    3.2 Si 衬底上纳米棒阵列的生长第25-27页
        3.2.1 清洗衬底第25页
        3.2.2 生长晶种层第25-26页
        3.2.3 Si 衬底上纳米棒阵列的水热生长第26-27页
    3.3 小结第27-28页
4 Si 衬底上 ZnO 纳米棒薄膜的优化生长及表征第28-37页
    4.1 ZnO 纳米棒阵列模板的优化第28-31页
        4.1.1 反应温度对 ZnO 纳米棒阵列模板的影响第28-29页
        4.1.2 反应时间对 ZnO 纳米棒阵列模板的影响第29-30页
        4.1.3 生长液浓度对 ZnO 纳米棒阵列模板的影响第30-31页
    4.2 纳米棒阵列的二次水热生长优化第31-32页
    4.3 纳米棒薄膜的表征分析第32-34页
        4.3.1 扫描电子显微镜-形貌分析第32-33页
        4.3.2 膜厚仪表征第33-34页
        4.3.3 PL 光谱测试分析第34页
    4.4 FTO 衬底上生长有序纳米棒阵列第34-36页
    4.5 小结第36-37页
结论第37-38页
参考文献第38-42页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第42-43页
致谢第43页

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