摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
目录 | 第7-10页 |
1 绪论 | 第10-23页 |
1.1 研究背景及意义 | 第10-12页 |
1.2 类金刚石薄膜的发展 | 第12-18页 |
1.2.1 类金刚石薄膜的成分、结构和分类 | 第13-15页 |
1.2.2 类金刚石薄膜的制备方法 | 第15-17页 |
1.2.3 类金刚石薄膜的应用 | 第17-18页 |
1.3 类金刚石薄膜的研究现状 | 第18-22页 |
1.3.1 掺杂 | 第19-20页 |
1.3.2 过渡层及多层膜 | 第20页 |
1.3.3 表面造型技术 | 第20-21页 |
1.3.4 现有研究的局限性 | 第21-22页 |
1.4 本文的主要研究内容 | 第22-23页 |
2 类陨石坑表面类金刚石薄膜沉积系统设计 | 第23-47页 |
2.1 高真空系统的选型 | 第23-28页 |
2.1.1 真空系统的设计要求 | 第24页 |
2.1.2 真空系统的选型原则 | 第24-26页 |
2.1.3 真空系统的选型结果 | 第26-27页 |
2.1.4 高真空系统的组成 | 第27-28页 |
2.2 真空室的设计 | 第28-33页 |
2.2.1 真空室的壁厚计算 | 第28-31页 |
2.2.2 真空室强度和刚度校核 | 第31-32页 |
2.2.3 真空室的结构设计 | 第32-33页 |
2.3 真空系统的设计 | 第33-43页 |
2.3.1 真空系统的设计要求 | 第33-34页 |
2.3.2 真空系统总气体负荷 | 第34-36页 |
2.3.3 主泵的抽速粗算 | 第36-37页 |
2.3.4 总流导的计算 | 第37-39页 |
2.3.5 主泵的抽速精算 | 第39-40页 |
2.3.6 前级泵的抽速计算 | 第40页 |
2.3.7 抽气时间的计算 | 第40-42页 |
2.3.8 系统计算小结 | 第42-43页 |
2.4 类金刚石薄膜沉积系统概述 | 第43-46页 |
2.4.1 RF-DCCVD系统的安装布局 | 第43-45页 |
2.4.2 RF-DCCVD系统概述 | 第45-46页 |
2.5 本章小结 | 第46-47页 |
3 类陨石坑表面类金刚石薄膜的生长理论和表征方法 | 第47-59页 |
3.1 类金刚石薄膜的生长理论 | 第47-51页 |
3.1.1 等离子体生成 | 第47-48页 |
3.1.2 薄膜的生长 | 第48-51页 |
3.2 类陨石坑表面形成机理 | 第51-54页 |
3.2.1 尖端放电 | 第52-53页 |
3.2.2 类陨石坑中间层形成 | 第53-54页 |
3.3 类金刚石薄膜的表征 | 第54-58页 |
3.3.1 薄膜表面形貌 | 第54-55页 |
3.3.2 薄膜厚度及粗糙度 | 第55页 |
3.3.3 薄膜结构及成分 | 第55-57页 |
3.3.4 薄膜摩擦学特性 | 第57-58页 |
3.4 本章小结 | 第58-59页 |
4 类陨石坑表面类金刚石薄膜的制备及摩擦特性研究 | 第59-69页 |
4.1 实验部分 | 第59-61页 |
4.1.1 实验设备及原料 | 第59页 |
4.1.2 实验过程 | 第59-61页 |
4.2 结果与讨论 | 第61-67页 |
4.2.1 极间距对薄膜表面微米类陨石坑密度的影响 | 第61-63页 |
4.2.2 类陨石坑表面DLC薄膜的摩擦特性评价 | 第63-65页 |
4.2.3 微米类陨石坑结构对薄膜破坏寿命的影响 | 第65-66页 |
4.2.4 DLC薄膜材料的拉曼光谱成分分析 | 第66-67页 |
4.3 本章小结 | 第67-69页 |
5 结论与展望 | 第69-71页 |
5.1 主要结论 | 第69页 |
5.2 创新点 | 第69-70页 |
5.3 展望 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-77页 |
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第77-78页 |
致谢 | 第78页 |