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类陨石坑表面类金刚石薄膜的制备及其沉积系统设计

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
目录第7-10页
1 绪论第10-23页
    1.1 研究背景及意义第10-12页
    1.2 类金刚石薄膜的发展第12-18页
        1.2.1 类金刚石薄膜的成分、结构和分类第13-15页
        1.2.2 类金刚石薄膜的制备方法第15-17页
        1.2.3 类金刚石薄膜的应用第17-18页
    1.3 类金刚石薄膜的研究现状第18-22页
        1.3.1 掺杂第19-20页
        1.3.2 过渡层及多层膜第20页
        1.3.3 表面造型技术第20-21页
        1.3.4 现有研究的局限性第21-22页
    1.4 本文的主要研究内容第22-23页
2 类陨石坑表面类金刚石薄膜沉积系统设计第23-47页
    2.1 高真空系统的选型第23-28页
        2.1.1 真空系统的设计要求第24页
        2.1.2 真空系统的选型原则第24-26页
        2.1.3 真空系统的选型结果第26-27页
        2.1.4 高真空系统的组成第27-28页
    2.2 真空室的设计第28-33页
        2.2.1 真空室的壁厚计算第28-31页
        2.2.2 真空室强度和刚度校核第31-32页
        2.2.3 真空室的结构设计第32-33页
    2.3 真空系统的设计第33-43页
        2.3.1 真空系统的设计要求第33-34页
        2.3.2 真空系统总气体负荷第34-36页
        2.3.3 主泵的抽速粗算第36-37页
        2.3.4 总流导的计算第37-39页
        2.3.5 主泵的抽速精算第39-40页
        2.3.6 前级泵的抽速计算第40页
        2.3.7 抽气时间的计算第40-42页
        2.3.8 系统计算小结第42-43页
    2.4 类金刚石薄膜沉积系统概述第43-46页
        2.4.1 RF-DCCVD系统的安装布局第43-45页
        2.4.2 RF-DCCVD系统概述第45-46页
    2.5 本章小结第46-47页
3 类陨石坑表面类金刚石薄膜的生长理论和表征方法第47-59页
    3.1 类金刚石薄膜的生长理论第47-51页
        3.1.1 等离子体生成第47-48页
        3.1.2 薄膜的生长第48-51页
    3.2 类陨石坑表面形成机理第51-54页
        3.2.1 尖端放电第52-53页
        3.2.2 类陨石坑中间层形成第53-54页
    3.3 类金刚石薄膜的表征第54-58页
        3.3.1 薄膜表面形貌第54-55页
        3.3.2 薄膜厚度及粗糙度第55页
        3.3.3 薄膜结构及成分第55-57页
        3.3.4 薄膜摩擦学特性第57-58页
    3.4 本章小结第58-59页
4 类陨石坑表面类金刚石薄膜的制备及摩擦特性研究第59-69页
    4.1 实验部分第59-61页
        4.1.1 实验设备及原料第59页
        4.1.2 实验过程第59-61页
    4.2 结果与讨论第61-67页
        4.2.1 极间距对薄膜表面微米类陨石坑密度的影响第61-63页
        4.2.2 类陨石坑表面DLC薄膜的摩擦特性评价第63-65页
        4.2.3 微米类陨石坑结构对薄膜破坏寿命的影响第65-66页
        4.2.4 DLC薄膜材料的拉曼光谱成分分析第66-67页
    4.3 本章小结第67-69页
5 结论与展望第69-71页
    5.1 主要结论第69页
    5.2 创新点第69-70页
    5.3 展望第70-71页
参考文献第71-77页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第77-78页
致谢第78页

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