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高分子薄膜的提拉法制备及成膜机理研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
目录第8-10页
第一章 绪论第10-24页
    1.1 液体对固体的浸润与去润湿第10-16页
        1.1.1 液体在固体表面的接触角第10-11页
        1.1.2 液体在固体表面的铺展第11-13页
        1.1.3 液体在固体表面的去润湿第13-16页
    1.2 固体基板表面的改性第16-19页
        1.2.1 抑制固体表面去润湿第16-17页
        1.2.2 增加固体表面去润湿第17-19页
    1.3 高分子在固体表面成膜的方法第19-21页
        1.3.1 旋转涂膜法第20页
        1.3.2 浇铸法第20-21页
        1.3.3 浸渍-提拉法第21页
    1.4 高分子纳米膜的应用第21-22页
    1.5 课题的提出第22-24页
第二章 实验部分第24-32页
    2.1 原料第24-25页
    2.2 基板的制备第25-26页
        2.2.1 超疏水和超亲水二氧化硅基板的制备第25页
        2.2.2 等规的聚丙烯(iPP)超疏水及超润滑基板的制备第25-26页
        2.2.3 聚二甲基硅氧烷(PDMS)基板的制备第26页
    2.3 固体表面纳米薄膜的制备第26-28页
        2.3.1 旋转涂膜法第26-27页
        2.3.2 吹膜法第27页
        2.3.3 浸渍-提拉法第27-28页
    2.4 纳米膜的转移第28-29页
        2.4.1 转移法第28页
        2.4.2 浸泡法第28-29页
    2.5 薄膜性能测试及结构表征第29-32页
第三章 固体基板的制备及其表面成膜性研究第32-44页
    3.1 超疏水和超亲水二氧化硅基板的制备及表面成膜研究第32-36页
    3.2 超润滑表面的制备及其表面成膜研究第36-38页
    3.3 聚二甲基硅氧烷(PDMS)基板的制备及表面成膜研究第38-41页
    3.4 单晶硅硅基板及其表面成膜性能第41-42页
    3.5 本章小结第42-44页
第四章 高分子溶液提拉法成膜机理研究第44-63页
    4.1 高分子溶液的表征第44-46页
    4.2 PDMS 表面高分子薄膜成膜研究第46-59页
    4.3 单晶硅表面高分子薄膜成膜研究第59-60页
    4.4 固体表面成膜机理的分析第60-61页
    4.5 纳米薄膜的微结构初步研究第61-62页
    4.6 本章小结第62-63页
第五章 结论与展望第63-65页
    5.1 全文总结第63页
    5.2 应用与展望第63-65页
参考文献第65-70页
攻读学位期间发表的学术论文及奖励第70-71页
致谢第71页

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