| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 液体对固体的浸润与去润湿 | 第10-16页 |
| 1.1.1 液体在固体表面的接触角 | 第10-11页 |
| 1.1.2 液体在固体表面的铺展 | 第11-13页 |
| 1.1.3 液体在固体表面的去润湿 | 第13-16页 |
| 1.2 固体基板表面的改性 | 第16-19页 |
| 1.2.1 抑制固体表面去润湿 | 第16-17页 |
| 1.2.2 增加固体表面去润湿 | 第17-19页 |
| 1.3 高分子在固体表面成膜的方法 | 第19-21页 |
| 1.3.1 旋转涂膜法 | 第20页 |
| 1.3.2 浇铸法 | 第20-21页 |
| 1.3.3 浸渍-提拉法 | 第21页 |
| 1.4 高分子纳米膜的应用 | 第21-22页 |
| 1.5 课题的提出 | 第22-24页 |
| 第二章 实验部分 | 第24-32页 |
| 2.1 原料 | 第24-25页 |
| 2.2 基板的制备 | 第25-26页 |
| 2.2.1 超疏水和超亲水二氧化硅基板的制备 | 第25页 |
| 2.2.2 等规的聚丙烯（iPP）超疏水及超润滑基板的制备 | 第25-26页 |
| 2.2.3 聚二甲基硅氧烷（PDMS）基板的制备 | 第26页 |
| 2.3 固体表面纳米薄膜的制备 | 第26-28页 |
| 2.3.1 旋转涂膜法 | 第26-27页 |
| 2.3.2 吹膜法 | 第27页 |
| 2.3.3 浸渍-提拉法 | 第27-28页 |
| 2.4 纳米膜的转移 | 第28-29页 |
| 2.4.1 转移法 | 第28页 |
| 2.4.2 浸泡法 | 第28-29页 |
| 2.5 薄膜性能测试及结构表征 | 第29-32页 |
| 第三章 固体基板的制备及其表面成膜性研究 | 第32-44页 |
| 3.1 超疏水和超亲水二氧化硅基板的制备及表面成膜研究 | 第32-36页 |
| 3.2 超润滑表面的制备及其表面成膜研究 | 第36-38页 |
| 3.3 聚二甲基硅氧烷（PDMS）基板的制备及表面成膜研究 | 第38-41页 |
| 3.4 单晶硅硅基板及其表面成膜性能 | 第41-42页 |
| 3.5 本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 高分子溶液提拉法成膜机理研究 | 第44-63页 |
| 4.1 高分子溶液的表征 | 第44-46页 |
| 4.2 PDMS 表面高分子薄膜成膜研究 | 第46-59页 |
| 4.3 单晶硅表面高分子薄膜成膜研究 | 第59-60页 |
| 4.4 固体表面成膜机理的分析 | 第60-61页 |
| 4.5 纳米薄膜的微结构初步研究 | 第61-62页 |
| 4.6 本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 结论与展望 | 第63-65页 |
| 5.1 全文总结 | 第63页 |
| 5.2 应用与展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文及奖励 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
