摘要 | 第3-4页 |
abstract | 第4-5页 |
第一章 文献综述 | 第9-22页 |
1.1 前言 | 第9-10页 |
1.1.1 聚乙烯 | 第9页 |
1.1.2 铜 | 第9页 |
1.1.3 半导体硅片 | 第9-10页 |
1.2 镀膜方法介绍 | 第10-16页 |
1.2.1 真空蒸发镀膜 | 第10-12页 |
1.2.1.1 原理 | 第10-11页 |
1.2.1.2 蒸发过程中的真空条件 | 第11页 |
1.2.1.3 真空蒸发镀膜法的优缺点 | 第11页 |
1.2.1.4 蒸发源 | 第11-12页 |
1.2.2 离子束溅射 | 第12页 |
1.2.3 磁控溅射 | 第12-13页 |
1.2.4 双层辉光等离子体渗金属介绍 | 第13-16页 |
1.2.4.1 等离子体知识 | 第14-15页 |
1.2.4.2 技术介绍 | 第15-16页 |
1.2.5 激光化学沉积 | 第16页 |
1.3 空间电荷的测量方法 | 第16-20页 |
1.3.1 空间电荷测试方法 | 第16-19页 |
1.3.1.1 电声脉冲法 | 第16页 |
1.3.1.2 热脉冲法 | 第16-17页 |
1.3.1.3 压力脉冲法 | 第17页 |
1.3.1.4 热刺激电流法 | 第17-19页 |
1.3.2 空间电荷的影响因素 | 第19-20页 |
1.4 功函数 | 第20-21页 |
1.4.1 功函数的分类 | 第20页 |
1.4.2 功函数的作用 | 第20页 |
1.4.3 功函数的测量方法 | 第20页 |
1.4.4 影响功函数的因素 | 第20-21页 |
1.5 本试验的可行性理论分析及立题依据 | 第21-22页 |
第二章 Cu电极的表面改性 | 第22-34页 |
2.1 实验仪器及试剂 | 第22页 |
2.2 PCVD镀膜原理 | 第22-24页 |
2.3 实验步骤 | 第24-25页 |
2.4 场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和原子力显微镜(AFM) | 第25-28页 |
2.5 铜片镀膜的EDS结果 | 第28-30页 |
2.6 镀膜铜片的XPS结果 | 第30-31页 |
2.7 功函数结果 | 第31-33页 |
2.7.1 表面功函数测试仪 | 第31-33页 |
2.7.2 测试步骤 | 第33页 |
2.7.3 测试结果 | 第33页 |
2.8 本章小结 | 第33-34页 |
第三章 电极材料对聚乙烯内空间电荷分布的影响 | 第34-57页 |
3.1 PulsedElectro-Acoustic(PEA)测试 | 第34-36页 |
3.1.1 PEA空间电荷测量仪 | 第34-35页 |
3.1.2 PEA空间电荷测量仪测试步骤 | 第35-36页 |
3.2 PEA测试结果 | 第36-56页 |
3.2.1 电极表面改性对LDPE中空间电荷的影响 | 第36-42页 |
3.2.2 半导电层对LDPE中空间电荷的影响 | 第42-49页 |
3.2.3 不同场强对LDPE中空间电荷的影响 | 第49-56页 |
3.3 本章小结 | 第56-57页 |
第四章 低密度聚乙烯的热刺激电流分析 | 第57-77页 |
4.1 LDPE的TSC测试步骤 | 第57-58页 |
4.1.1 电荷注入工艺过程 | 第57页 |
4.1.2 TSC测量系统使用方法 | 第57-58页 |
4.2 TSC测试步骤结果 | 第58-75页 |
4.2.1 电极材料改性对LDPE热刺激释放电流的影响 | 第58-65页 |
4.2.2 半导电层对LDPE热刺激释放电流的影响 | 第65-71页 |
4.2.3 不同场强对LDPE中空间电荷的影响 | 第71-75页 |
4.3 本章小结 | 第75-77页 |
结论 | 第77-79页 |
参考文献 | 第79-85页 |
致谢 | 第85-87页 |
攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第87-91页 |