| 摘要 | 第11-13页 |
| ABSTRACT | 第13-15页 |
| 第一章 绪论 | 第16-30页 |
| 1.1 研究背景 | 第16-17页 |
| 1.2 红外辐射 | 第17-19页 |
| 1.2.1 红外辐射的基本概念 | 第17-18页 |
| 1.2.2 红外发射率 | 第18-19页 |
| 1.3 高温高发射率涂层的组成 | 第19-20页 |
| 1.4 高温高发射率涂层的研究进展 | 第20-24页 |
| 1.5 高发射率相HfB_2、MoSi_2、TaSi_2粉体的制备 | 第24-27页 |
| 1.5.1 HfB_2粉体的制备 | 第24-25页 |
| 1.5.2 MoSi_2粉体的制备 | 第25-26页 |
| 1.5.3 TaSi_2粉体的制备 | 第26-27页 |
| 1.6 本文的研究目的、意义及内容 | 第27-30页 |
| 1.6.1 论文研究目的、意义 | 第27页 |
| 1.6.2 论文研究内容 | 第27-30页 |
| 第二章 实验原料与方法 | 第30-36页 |
| 2.1 实验原料 | 第30-31页 |
| 2.2 实验设备 | 第31页 |
| 2.3 实验过程 | 第31-33页 |
| 2.3.1 HfB_2粉体的合成 | 第31-32页 |
| 2.3.2 MoSi_2、TaSi_2粉体的合成 | 第32页 |
| 2.3.3 高发射率涂层的制备 | 第32-33页 |
| 2.4 性能表征 | 第33-36页 |
| 2.4.1 物相分析(XRD) | 第33页 |
| 2.4.2 显微形貌分析(SEM) | 第33页 |
| 2.4.3 紫外-可见光光谱分析 | 第33-34页 |
| 2.4.4 傅里叶红外光谱分析 | 第34页 |
| 2.4.5 热重和差热分析 | 第34页 |
| 2.4.6 粉体粒度测试 | 第34-36页 |
| 第三章 HfB_2粉体合成 | 第36-50页 |
| 3.1 HfO_2-H_3BO_3-C体系合成HfB_2粉体研究 | 第36-42页 |
| 3.1.1 HfO_2-H_3BO_3-C体系合成HfB_2粉体的热力学分析 | 第36-37页 |
| 3.1.2 H_3BO_3含量对HfB_2粉体合成的影响 | 第37-38页 |
| 3.1.3 煅烧温度对HfB_2粉体合成的影响 | 第38-39页 |
| 3.1.4 保温时间对HfB_2粉体合成的影响 | 第39-41页 |
| 3.1.5 HfB_2粉体的粒度分析 | 第41页 |
| 3.1.6 HfB_2粉体的变温抗氧化性 | 第41-42页 |
| 3.2 HfO_2-B_4C-C体系合成HfB_2粉体研究 | 第42-48页 |
| 3.2.1 HfO_2-B4C-C体系合成HfB_2粉体的热力学分析 | 第42-43页 |
| 3.2.2 B_4C含量对HfB_2粉体合成的影响 | 第43-44页 |
| 3.2.3 煅烧温度对HfB_2粉体合成的影响 | 第44-45页 |
| 3.2.4 保温时间对HfB_2粉体合成的影响 | 第45-46页 |
| 3.2.5 HfB_2粉体的粒度分析 | 第46-47页 |
| 3.2.6 HfB_2粉体的变温抗氧化性 | 第47-48页 |
| 3.3 本章小结 | 第48-50页 |
| 第四章 MoSi_2、TaSi_2粉体的合成 | 第50-62页 |
| 4.1 MoSi_2粉体的合成 | 第50-56页 |
| 4.1.1 原料组成对粉体合成的影响 | 第51-52页 |
| 4.1.2 煅烧温度对粉体合成的影响 | 第52-53页 |
| 4.1.3 保温时间对粉体合成的影响 | 第53-54页 |
| 4.1.4 MoSi_2粉体的粒度分析 | 第54-55页 |
| 4.1.5 MoSi_2粉体的变温抗氧化性 | 第55-56页 |
| 4.2 TaSi_2粉体的合成 | 第56-59页 |
| 4.2.1 原料组成对粉体合成的影响 | 第56-57页 |
| 4.2.2 煅烧温度对粉体合成的影响 | 第57-58页 |
| 4.2.3 保温时间对粉体合成的影响 | 第58-59页 |
| 4.3 粉体的粒度分布 | 第59-60页 |
| 4.4 粉体变温抗氧化性 | 第60页 |
| 4.5 本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 高发射率涂层的制备 | 第62-80页 |
| 5.1 高发射率涂层的影响因素 | 第62-63页 |
| 5.2 MoSi_2-SiO_2-硼硅酸盐涂层的性能研究 | 第63-68页 |
| 5.2.1 MoSi_2-SiO_2-硼硅酸盐涂层的成分分析 | 第64-65页 |
| 5.2.2 MoSi_2-SiO_2-硼硅酸盐涂层的微观形貌 | 第65-67页 |
| 5.2.3 MoSi_2-SiO_2-硼硅酸盐涂层的发射性能 | 第67-68页 |
| 5.3 TaSi_2-SiO_2-硼硅酸盐涂层的性能研究 | 第68-73页 |
| 5.3.1 TaSi_2-SiO_2-硼硅酸盐涂层的成分分析 | 第68-69页 |
| 5.3.2 TaSi_2-SiO_2-硼硅酸盐涂层的微观形貌 | 第69-71页 |
| 5.3.3 TaSi_2-SiO_2-硼硅酸盐涂层的发射性能 | 第71-73页 |
| 5.4 HfB_2-硼硅酸盐涂层的性能研究 | 第73-77页 |
| 5.4.1 HfB_2-硼硅酸盐涂层的成分分析 | 第73-74页 |
| 5.4.2 HfB_2-硼硅酸盐涂层的微观形貌 | 第74-76页 |
| 5.4.3 HfB_2-硼硅酸盐涂层的发射性能 | 第76-77页 |
| 5.5 本章小节 | 第77-80页 |
| 第六章 结论与展望 | 第80-84页 |
| 6.1 本文结论 | 第80-81页 |
| 6.2 本文主要创新点 | 第81-82页 |
| 6.3 展望 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-90页 |
| 致谢 | 第90-91页 |
| 附录Ⅰ: 攻读硕士学位期间发表的论文及成果 | 第91-92页 |
| 附件 | 第92页 |
