硅基狭缝波导设计制备及其应用
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1. 引言 | 第10-11页 |
| 1.2. 硅基光电器件 | 第11-16页 |
| 1.3. 硅基片上光互联 | 第16-17页 |
| 1.4. 非线性硅光子学 | 第17-21页 |
| 1.5. 本论文的主要研究内容及创新点 | 第21-22页 |
| 1.6. 本课题的来源及受资助情况 | 第22-23页 |
| 2 光波导基本理论 | 第23-32页 |
| 2.1. 光波导模式理论 | 第23-24页 |
| 2.2. 平板波导的模式 | 第24-27页 |
| 2.3. 数值计算方法 | 第27-31页 |
| 2.4. 本章小结 | 第31-32页 |
| 3 微纳制造工艺简介 | 第32-42页 |
| 3.1. 硅片清洗 | 第32-35页 |
| 3.2. 一般曝光步骤 | 第35-37页 |
| 3.3. 电子束曝光 | 第37-40页 |
| 3.4. 电感耦合等离子刻蚀 | 第40页 |
| 3.5. 本章小结 | 第40-42页 |
| 4 狭缝波导的设计和应用 | 第42-67页 |
| 4.1. 缝波导的结构和光场分布 | 第42-44页 |
| 4.2. 缝波导结构的应用介绍 | 第44-49页 |
| 4.3. 用于光学传感的脊型缝波导 | 第49-56页 |
| 4.4. 狭缝波导之间的耦合长度和光隔离 | 第56-59页 |
| 4.5. 狭缝微环的设计和制作 | 第59-65页 |
| 4.6. 本章小结 | 第65-67页 |
| 5 光波导的非线性理论 | 第67-82页 |
| 5.1. 非线性薛定谔方程推导 | 第67-69页 |
| 5.2. 数值求解方法——分步傅里叶算法 | 第69-70页 |
| 5.3. 四波混频 | 第70-72页 |
| 5.4. 硅波导的四波混频实验 | 第72-74页 |
| 5.5. Z-扫描测量 | 第74-77页 |
| 5.6. 二硫烯合金的非线性系数测量 | 第77-81页 |
| 5.7. 本章小结 | 第81-82页 |
| 6 基于微谐振腔的光学频率梳 | 第82-106页 |
| 6.1. 产生光频梳的微腔系统 | 第82-85页 |
| 6.2. 与CMOS工艺兼容的光频梳国际研究进展 | 第85-89页 |
| 6.3. 光频梳的模拟 | 第89-91页 |
| 6.4. 具有高FOM的混合硅缝波导的结构设计 | 第91-97页 |
| 6.5. 混合硅水平缝波导的色散优化 | 第97-105页 |
| 6.6. 本章小结 | 第105-106页 |
| 7 总结与展望 | 第106-108页 |
| 致谢 | 第108-110页 |
| 参考文献 | 第110-126页 |
| 附录1 攻读博士学位期间发表论文目录 | 第126-128页 |
| 附录Ⅱ 论文中缩略词的含义 | 第128页 |
