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有机铁电薄膜电疲劳恢复特性研究

目录第3-5页
摘要第5-6页
Abstract第6页
第一章 绪论第7-21页
    1.1 铁电性基础第7-10页
    1.2 铁电聚合物概述第10-11页
    1.3 铁电薄膜材料的极化疲劳失效问题第11-12页
    1.4 铁电薄膜材料的应用第12-15页
        1.4.1 铁电存储器第13-15页
        1.4.2 基于P(VDF-TrFE)的FeFET第15页
    1.5 基于透明氧化物半导体的FeFET第15-20页
        1.5.1 IGZO简介第16页
        1.5.2 IGZO薄膜的制备方法第16-18页
        1.5.3 IGZO薄膜的低温制备问题第18页
        1.5.4 MOS电容结构的C-V特性第18-20页
    1.6 论文主要内容和结构第20-21页
第二章 铁电薄膜的制备与表征第21-28页
    2.1 铁电薄膜样品的制备第21-22页
    2.2 铁电薄膜表面形貌的AFM表征第22-25页
    2.3 铁电薄膜的电学表征第25-27页
    2.4 本章小结第27-28页
第三章 铁电聚合物极化疲劳恢复研究第28-52页
    3.1 实验样品的制备和表征第28-30页
    3.2 紫外辐照对疲劳速率的影响第30-33页
    3.3 紫外辐照对极化疲劳恢复的影响第33-47页
        3.3.1 紫外辐照时间对疲劳恢复的影响第35-36页
        3.3.2 不同偏压下紫外辐照对极化疲劳恢复的影响第36-43页
            3.3.2.1 偏压值大小对极化疲劳恢复的影响第37-40页
            3.3.2.2 偏压极性对极化疲劳恢复的影响第40-43页
        3.3.3 紫外光强度对极化疲劳恢复的影响第43-45页
        3.3.4 关于多次疲劳恢复的研究第45-47页
    3.4 讨论第47-50页
        3.4.1 紫外辐照对铁电薄膜的影响第47-49页
        3.4.2 印记失效第49-50页
    3.5 本章小结第50-52页
第四章 IGZO薄膜的低温制备与表征第52-59页
    4.1 IGZO薄膜样品的低温制备第53-54页
    4.2 IGZO薄膜的AFM表征第54-55页
    4.3 IGZO薄膜的透射率第55-56页
    4.4 MOS电容结构的C-V表征第56-57页
    4.5 实验结果讨论和不足之处第57-58页
    4.6 本章小结第58-59页
总结第59-60页
参考文献第60-65页
攻读硕士学位期间发表的论文第65-66页
致谢第66-67页

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