| 摘要 | 第9-11页 |
| Abstract | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第13-33页 |
| 1.1 光敏化材料的简介 | 第13页 |
| 1.2 光催化的意义 | 第13-16页 |
| 1.3 光催化的机理 | 第16-21页 |
| 1.3.1 无机半导体光催化的机理 | 第16-19页 |
| 1.3.2 有机半导体光催化的基本原理 | 第19-21页 |
| 1.4 光敏化材料的研究现状 | 第21-25页 |
| 1.4.1 无机光敏化材料的研究现状 | 第21-25页 |
| 1.4.2 有机光敏化材料的研究现状 | 第25页 |
| 1.5 石墨烯 | 第25-26页 |
| 1.5.1 石墨烯的结构和性质 | 第25-26页 |
| 1.5.2 石墨烯的制备 | 第26页 |
| 1.6 钨酸铋的结构 | 第26-27页 |
| 1.7 卟啉 | 第27-28页 |
| 1.7.1 四苯基卟啉的结构 | 第27-28页 |
| 1.7.2 四苯基卟啉的研究现状 | 第28页 |
| 1.7.3 四苯基卟啉的制备方法 | 第28页 |
| 1.8 扫描电化学显微镜（SECM） | 第28-31页 |
| 1.8.1 SECM的简介 | 第28-29页 |
| 1.8.2 SECM的工作原理 | 第29-30页 |
| 1.8.3 SECM的工作模式 | 第30页 |
| 1.8.4 SECM的应用 | 第30-31页 |
| 1.9 本课题的整体构想及研究内容 | 第31-33页 |
| 第二章 卟啉基复合材料的构建和对光催化水氧化的研究 | 第33-52页 |
| 2.1 前言 | 第33-34页 |
| 2.2 实验部分 | 第34-39页 |
| 2.2.1 试剂 | 第34-35页 |
| 2.2.2 仪器 | 第35页 |
| 2.2.3 氧化石墨烯、四苯基卟啉的合成 | 第35-36页 |
| 2.2.4 ITO电极的制备 | 第36-38页 |
| 2.2.5 电化学测试 | 第38页 |
| 2.2.6 光电化学测试 | 第38页 |
| 2.2.7 SECM测试 | 第38-39页 |
| 2.3 实验结果与讨论 | 第39-51页 |
| 2.3.1 还原氧化石墨烯和氧化石墨烯的紫外表征 | 第39-40页 |
| 2.3.2 还原氧化石墨烯和氧化石墨烯的拉曼表征 | 第40页 |
| 2.3.3 材料的SEM表征 | 第40-41页 |
| 2.3.4 材料的傅立叶红外（FT_IR）表征 | 第41-42页 |
| 2.3.5 材料的能谱表征 | 第42页 |
| 2.3.6 材料的荧光表征 | 第42-43页 |
| 2.3.7 材料的电化学表征 | 第43-44页 |
| 2.3.8 材料的阻抗（EIS）表征 | 第44-45页 |
| 2.3.9 不同材料的i-t curve测试 | 第45-46页 |
| 2.3.10 SECM测试 | 第46-50页 |
| 2.3.11 光催化电子转移过程 | 第50-51页 |
| 2.4 小结 | 第51-52页 |
| 第三章 助催化剂Au和rGO对于花状钨酸铋光催化性能的研究 | 第52-72页 |
| 3.1 前言 | 第52-54页 |
| 3.2 实验部分 | 第54-59页 |
| 3.2.1 试剂 | 第54页 |
| 3.2.2 仪器 | 第54页 |
| 3.2.3 石墨烯@钨酸铋@金复合材料的合成 | 第54-56页 |
| 3.2.4 FTO电极的制备 | 第56-57页 |
| 3.2.5 光催化测试 | 第57页 |
| 3.2.6 光电化学测试 | 第57-58页 |
| 3.2.7 SECM测试 | 第58-59页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第59-71页 |
| 3.3.1 材料的SEM表征 | 第59-60页 |
| 3.3.2 材料的XRD表征 | 第60-61页 |
| 3.3.3 材料的能谱表征 | 第61页 |
| 3.3.4 材料的傅立叶红外（FT-IR）表征 | 第61-62页 |
| 3.3.5 材料的光致发光表征 | 第62-63页 |
| 3.3.6 不同材料的i-t curve测试 | 第63-64页 |
| 3.3.7 不同材料的EIS测试 | 第64-65页 |
| 3.3.8 不同材料的M-S测试 | 第65-66页 |
| 3.3.9 SECM测试 | 第66-68页 |
| 3.3.10 不同材料的光催化测试 | 第68-70页 |
| 3.3.11 光催化电子转移过程 | 第70-71页 |
| 3.4 小结 | 第71-72页 |
| 第四章 氧空位对花状钨酸铋光催化性能影响的研究 | 第72-86页 |
| 4.1 前言 | 第72-73页 |
| 4.2 实验部分 | 第73-76页 |
| 4.2.1 试剂 | 第73页 |
| 4.2.2 仪器 | 第73-74页 |
| 4.2.3 材料的合成 | 第74-75页 |
| 4.2.3.1 钨酸铋的合成 | 第74页 |
| 4.2.3.2 还原态钨酸铋的合成 | 第74-75页 |
| 4.2.4 FTO电极的制备 | 第75页 |
| 4.2.5 光催化测试 | 第75-76页 |
| 4.2.6 光电化学测试 | 第76页 |
| 4.2.7 SECM测试 | 第76页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第76-85页 |
| 4.3.1 材料的SEM表征 | 第76页 |
| 4.3.2 材料的XRD表征 | 第76-77页 |
| 4.3.3 材料的傅立叶红外（FT-IR）表征 | 第77-78页 |
| 4.3.4 材料的紫外漫反射 | 第78页 |
| 4.3.5 材料的光致发光表征 | 第78-79页 |
| 4.3.6 不同材料的i-t curve测试 | 第79-80页 |
| 4.3.7 不同材料的EIS测试 | 第80页 |
| 4.3.8 不同材料的IMPS测试 | 第80-81页 |
| 4.3.9 SECM测试 | 第81-83页 |
| 4.3.10 不同材料的光催化测试 | 第83-85页 |
| 4.4 小结 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-119页 |
| 在读硕士期间的成果 | 第119-121页 |
| 致谢 | 第121页 |