| 致谢 | 第7-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第17-23页 |
| 1.1 引言 | 第17-18页 |
| 1.2 OLED的研究进展及发展趋势 | 第18-22页 |
| 1.2.1 OLED的发展历程 | 第18-20页 |
| 1.2.2 OLED的现状及发展趋势 | 第20-22页 |
| 1.3 本论文的研究目的和主要内容 | 第22-23页 |
| 第二章 OLED基本原理知识 | 第23-37页 |
| 2.1 OLED的工作原理 | 第23-26页 |
| 2.1.1 OLED的发光机理 | 第23-25页 |
| 2.1.2 OLED能量转移机制 | 第25-26页 |
| 2.2 OLED常用材料 | 第26-30页 |
| 2.2.1 电极材料 | 第26-27页 |
| 2.2.2 载流子注入材料 | 第27页 |
| 2.2.3 载流子传输材料 | 第27-28页 |
| 2.2.4 发光层材料 | 第28-30页 |
| 2.2.5 载流子阻挡材料 | 第30页 |
| 2.3 OLED性能参数 | 第30-32页 |
| 2.3.1 发光亮度 | 第30页 |
| 2.3.2 量子效率 | 第30-31页 |
| 2.3.3 发光效率 | 第31页 |
| 2.3.4 发光光谱 | 第31页 |
| 2.3.5 色度 | 第31-32页 |
| 2.4 OLED制备方法 | 第32-35页 |
| 2.4.1 真空蒸镀法 | 第32-33页 |
| 2.4.2 旋涂法 | 第33-34页 |
| 2.4.3 喷墨打印法 | 第34-35页 |
| 2.4.4 激光热转印法 | 第35页 |
| 2.5 本章小结 | 第35-37页 |
| 第三章 OLED器件电子传输层的优化 | 第37-48页 |
| 3.1 引言 | 第37页 |
| 3.2 OLED器件的制备 | 第37-38页 |
| 3.2.1 ITO基片预处理 | 第37页 |
| 3.2.2 各功能层的制备 | 第37页 |
| 3.2.3 OLED器件的封装 | 第37-38页 |
| 3.3 器件电子注入层的优化 | 第38-40页 |
| 3.3.1 器件电子和空穴注入能力的比较 | 第38-39页 |
| 3.3.2 LiF和Cs_2CO_3电子注入能力的比较 | 第39-40页 |
| 3.4 器件电子传输层的优化 | 第40-47页 |
| 3.4.1 Bphen对电子注入能力的改善 | 第40-41页 |
| 3.4.2 Bphen对器件性能的影响 | 第41-43页 |
| 3.4.3 Bphen：Cs_2CO_3对电子注入能力的改善 | 第43-45页 |
| 3.4.4 Bphen：Cs_2CO_3对器件性能的影响 | 第45-47页 |
| 3.5 本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 微透镜阵列在OLED上的应用 | 第48-66页 |
| 4.1 引言 | 第48页 |
| 4.2 OLED器件出光效率的影响因素 | 第48-49页 |
| 4.2.1 OLED器件光的传播模式 | 第48-49页 |
| 4.2.2 提高OLED器件出光效率的方法 | 第49页 |
| 4.3 微透镜阵列的仿真分析 | 第49-54页 |
| 4.3.1 仿真模型 | 第49-51页 |
| 4.3.2 间距对OLED器件出光效率的影响 | 第51-52页 |
| 4.3.3 口径大小对OLED器件出光效率的影响 | 第52页 |
| 4.3.4 接触角对OLED器件出光效率的影响 | 第52-53页 |
| 4.3.5 排列方式对OLED器件出光效率的影响 | 第53-54页 |
| 4.4 微透镜阵列的制备方法及工艺 | 第54-58页 |
| 4.4.1 热熔法制备微透镜阵列 | 第54-55页 |
| 4.4.2 微透镜阵列制备工艺 | 第55-56页 |
| 4.4.3 实验制备微透镜阵列 | 第56-58页 |
| 4.5 微透镜阵列对OLED器件性能的影响 | 第58-64页 |
| 4.5.1 微透镜阵列透过率对器件性能的影响 | 第58-60页 |
| 4.5.2 大尺寸微透镜阵列对OLED器件出光率的影响 | 第60-62页 |
| 4.5.3 小尺寸微透镜阵列对OLED器件出光率的影响 | 第62-64页 |
| 4.6 本章小结 | 第64-66页 |
| 第五章 总结与展望 | 第66-68页 |
| 5.1 本文工作总结 | 第66-67页 |
| 5.2 展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 | 第73页 |
