高介电钛酸钡薄膜的电射流成型研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 BTO薄膜及其应用 | 第10-15页 |
| 1.1.1 电介质与BTO | 第10-11页 |
| 1.1.2 BTO薄膜的制备方法 | 第11-13页 |
| 1.1.3 BTO薄膜的应用以及电容器的发展趋势 | 第13-15页 |
| 1.2 电射流沉积技术简介 | 第15-17页 |
| 1.3 静电纺丝技术简介 | 第17-20页 |
| 1.3.1 静电纺丝技术原理 | 第17页 |
| 1.3.2 电纺丝的应用 | 第17-20页 |
| 1.4 本论文的工作与研究思路 | 第20-21页 |
| 2 BTO悬浊液的制备以及BTO薄膜的性能表征 | 第21-28页 |
| 2.1 实验材料及实验设备 | 第21-22页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第21页 |
| 2.1.2 电射流沉积实验装置 | 第21-22页 |
| 2.1.3 其他实验仪器和设备 | 第22页 |
| 2.2 BTO悬浮液的制备 | 第22-23页 |
| 2.3 BTO悬浊液性质的表征 | 第23-25页 |
| 2.3.1 BTO悬浊液的密度 | 第23-24页 |
| 2.3.2 BTO悬浊液的表面张力 | 第24页 |
| 2.3.3 BTO悬浊液的电导率 | 第24页 |
| 2.3.4 BTO悬浊液的粘度 | 第24-25页 |
| 2.4 BTO薄膜介电性能的表征 | 第25-27页 |
| 2.5 本章小结 | 第27-28页 |
| 3 硅衬底的电射流沉积BTO薄膜 | 第28-44页 |
| 3.1 硅片的清洗 | 第28页 |
| 3.2 电射流沉积BTO薄膜工艺流程 | 第28页 |
| 3.3 电射流沉积参数和热处理对薄膜的影响 | 第28-38页 |
| 3.3.1 沉积高度对薄膜的影响 | 第28-32页 |
| 3.3.2 扫描间距对薄膜的影响 | 第32-33页 |
| 3.3.3 热处理对BTO薄膜的影响 | 第33-38页 |
| 3.4 BTO薄膜的性能表征 | 第38-41页 |
| 3.4.1 BTO薄膜的介电性能测试 | 第38-40页 |
| 3.4.2 BTO薄膜的结合力测试 | 第40-41页 |
| 3.5 电射流沉积与电泳沉积BTO薄膜的对比 | 第41-43页 |
| 3.5.1 电泳沉积装置及原材料 | 第41-42页 |
| 3.5.2 电泳沉积实验 | 第42-43页 |
| 3.5.3 电泳沉积BTO薄膜 | 第43页 |
| 3.6 本章小结 | 第43-44页 |
| 4 静电纺丝制备亚微米BTO纤维及电容的组装 | 第44-52页 |
| 4.1 电纺丝BTO溶胶的制备 | 第44页 |
| 4.2 电纺BTO的设备 | 第44-45页 |
| 4.3 电纺丝参数对纤维的影响 | 第45-47页 |
| 4.3.1 纺丝高度对纤维的影响 | 第45-46页 |
| 4.3.2 流量对纤维的影响 | 第46-47页 |
| 4.4 表面具有微结构的BTO电容的组装与测试 | 第47-49页 |
| 4.4.1 电容组装的工艺流程 | 第47-48页 |
| 4.4.2 电容的测试 | 第48-49页 |
| 4.5 BTO薄膜双平板电容模拟仿真 | 第49-51页 |
| 4.5.1 几何模型的建立和物理模型选定 | 第49-50页 |
| 4.5.2 划分网格及边界条件的设置 | 第50页 |
| 4.5.3 参数设置及运行计算 | 第50页 |
| 4.5.4 仿真结果分析 | 第50-51页 |
| 4.6 本章小结 | 第51-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
