| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-28页 |
| 1.1 低温等离子体 | 第9-16页 |
| 1.1.1 低温等离子体源 | 第9-13页 |
| 1.1.2 低温等离子体与微电子工业 | 第13-16页 |
| 1.2 低温等离子体刻蚀与沉积技术 | 第16-21页 |
| 1.2.1 低温等离子体薄膜刻蚀技术 | 第16-19页 |
| 1.2.2 低温等离子体薄膜沉积技术 | 第19-21页 |
| 1.3 脉冲调制射频等离子体的研究背景及进展 | 第21-28页 |
| 1.3.1 脉冲调制射频等离子体的应用背景 | 第21-23页 |
| 1.3.2 脉冲调制射频等离子体实验及模拟的研究进展 | 第23-28页 |
| 2 模拟方法及物理模型 | 第28-35页 |
| 2.1 流体力学模型 | 第29-31页 |
| 2.2 电子蒙特卡罗模型 | 第31-33页 |
| 2.3 流体/电子蒙特卡罗混合模型 | 第33页 |
| 2.4 腔室结构 | 第33-34页 |
| 2.5 化学反应 | 第34-35页 |
| 3 脉冲调制射频H_2放电混合模型模拟 | 第35-60页 |
| 3.1 脉冲占空比对等离子体性质的影响 | 第35-42页 |
| 3.1.1 对电子温度、电子密度的影响 | 第35-37页 |
| 3.1.2 对电子能量几率分布的影响 | 第37-38页 |
| 3.1.3 对离子密度的影响 | 第38-39页 |
| 3.1.4 对电场、电势的影响 | 第39-42页 |
| 3.2 脉冲频率对等离子体性质的影响 | 第42-47页 |
| 3.2.1 对电子温度、电子密度的影响 | 第42-44页 |
| 3.2.2 对电子能量几率分布的影响 | 第44-45页 |
| 3.2.3 对离子密度的影响 | 第45-46页 |
| 3.2.4 对电场、电势的影响 | 第46-47页 |
| 3.3 气压对等离子体性质的影响 | 第47-53页 |
| 3.3.1 对电子温度、电子密度的影响 | 第48-49页 |
| 3.3.2 对电子能量几率分布的影响 | 第49-50页 |
| 3.3.3 对离子密度的影响 | 第50-51页 |
| 3.3.4 对电场、电势的影响 | 第51-53页 |
| 3.4 电压对等离子体性质的影响 | 第53-60页 |
| 3.4.1 对电子温度、电子密度的影响 | 第54-55页 |
| 3.4.2 对电子能量几率分布的影响 | 第55-56页 |
| 3.4.3 对离子密度的影响 | 第56-57页 |
| 3.4.4 对电场、电势的影响 | 第57-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |