基于脉冲微射流控制的射流掺混特性研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 射流及湍射流简介 | 第9页 |
| 1.3 射流的流动控制技术研究现状 | 第9-13页 |
| 1.3.1 流动控制技术简介 | 第9-10页 |
| 1.3.2 流动控制技术的分类与发展 | 第10-11页 |
| 1.3.3 微射流控制技术的发展及现状 | 第11-13页 |
| 1.4 本文研究的目的及意义 | 第13页 |
| 1.5 本课题来源及研究内容 | 第13-14页 |
| 1.5.1 课题来源 | 第13页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第13-14页 |
| 1.6 本文研究创新点 | 第14-15页 |
| 第二章 脉冲射流设备及测量分析方法 | 第15-25页 |
| 2.1 概述 | 第15页 |
| 2.2 射流实验台装置及工作原理 | 第15-17页 |
| 2.3 PIV技术及设备介绍 | 第17-22页 |
| 2.3.1 PIV技术简介 | 第17-18页 |
| 2.3.2 本实验PIV介绍 | 第18-22页 |
| 2.4 实验工况及参数设置 | 第22-23页 |
| 2.5 本章小结 | 第23-25页 |
| 第三章 自由射流CFD数值模拟及实验验证 | 第25-39页 |
| 3.1 CFD简介 | 第25-27页 |
| 3.1.1 CFD总体简介 | 第25-26页 |
| 3.1.2 控制方程的建立 | 第26页 |
| 3.1.3 初始条件及边界条件的确定 | 第26-27页 |
| 3.1.4 划分网格模型及建立离散方程 | 第27页 |
| 3.1.5 CFD软件中的其他设置及功能 | 第27页 |
| 3.2 计算域模型建立 | 第27-28页 |
| 3.3 模型网格划分 | 第28-29页 |
| 3.4 定解条件设定 | 第29-31页 |
| 3.5 数值模拟及验证 | 第31-38页 |
| 3.5.1 射流稳态模拟 | 第31-32页 |
| 3.5.2 稳态模拟结果分析 | 第32-33页 |
| 3.5.3 射流瞬态模拟方法选择 | 第33-34页 |
| 3.5.4 射流瞬态模拟及实验验证 | 第34-38页 |
| 3.6 本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 圆射流瞬态扩散掺混数值模拟 | 第39-53页 |
| 4.1 自由射流流场结构 | 第39-41页 |
| 4.2 不同控制条件下的流场扩散掺混模拟 | 第41-51页 |
| 4.2.1 激励频率对流场扩散的影响 | 第41-42页 |
| 4.2.2 激励频率对流场掺混的影响 | 第42-43页 |
| 4.2.3 激励分布对流场扩散的影响 | 第43-44页 |
| 4.2.4 激励分布对流场掺混的影响 | 第44-46页 |
| 4.2.5 质量流率对流场扩散的影响 | 第46-47页 |
| 4.2.6 质量流率对流场掺混的影响 | 第47页 |
| 4.2.7 占空比对流场扩散的影响 | 第47-49页 |
| 4.2.8 占空比对流场掺混的影响 | 第49-50页 |
| 4.2.9 不同控制条件下的控制特点总结 | 第50-51页 |
| 4.3 本章小结 | 第51-53页 |
| 第五章 影响流场掺混变化的成因分析 | 第53-71页 |
| 5.1 微射流激励对流场结构的影响 | 第53-55页 |
| 5.2 微射流分布对流场涡结构演变的影响分析 | 第55-61页 |
| 5.3 微射流激励频率对流场涡结构演变的影响分析 | 第61-64页 |
| 5.4 微射流质量流率对流场涡结构演变的影响分析 | 第64-67页 |
| 5.5 微射流占空比对流场涡结构演变的影响分析 | 第67-68页 |
| 5.6 成因分析总结 | 第68-69页 |
| 5.7 本章小结 | 第69-71页 |
| 第六章 结论与展望 | 第71-73页 |
| 6.1 本文结论 | 第71-72页 |
| 6.2 研究内容展望 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文及取得的研究成果 | 第79页 |
