基于硅超表面光学三倍频的实验研究
摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
1 绪论 | 第9-18页 |
1.1 引言 | 第9-10页 |
1.2 国内外研究现状 | 第10-16页 |
1.3 本文的研究内容及章节安排 | 第16-17页 |
1.4 本章小结 | 第17-18页 |
2 基本理论 | 第18-28页 |
2.1 非线性光学的基本原理 | 第18-22页 |
2.2 硅的非线性 | 第22-23页 |
2.3 纳米结构中谐波效率的公式表征 | 第23-24页 |
2.4 超表面中的磁偶极共振 | 第24-27页 |
2.5 本章小结 | 第27-28页 |
3 硅超表面结构的设计与仿真 | 第28-37页 |
3.1 硅超表面结构的仿真设计 | 第28-32页 |
3.2 硅超表面仿真结果的分析 | 第32-35页 |
3.3 硅超表面磁谐振原理分析 | 第35-36页 |
3.4 本章小结 | 第36-37页 |
4 硅超表面的制备与测试 | 第37-48页 |
4.1 硅超表面的工艺制作 | 第37-42页 |
4.2 硅超表面中三倍频光的测试系统搭建 | 第42-44页 |
4.3 超表面的测试结果分析 | 第44-46页 |
4.4 本章小结 | 第46-48页 |
5 全文总结与工作展望 | 第48-50页 |
5.1 本文总结 | 第48页 |
5.2 下一步工作展望 | 第48-50页 |
致谢 | 第50-51页 |
参考文献 | 第51-56页 |
附录1 攻读硕士学位期间发表的主要论文 | 第56-57页 |
附录2 论文中缩略词含义 | 第57页 |