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基于硅超表面光学三倍频的实验研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5-6页
1 绪论第9-18页
    1.1 引言第9-10页
    1.2 国内外研究现状第10-16页
    1.3 本文的研究内容及章节安排第16-17页
    1.4 本章小结第17-18页
2 基本理论第18-28页
    2.1 非线性光学的基本原理第18-22页
    2.2 硅的非线性第22-23页
    2.3 纳米结构中谐波效率的公式表征第23-24页
    2.4 超表面中的磁偶极共振第24-27页
    2.5 本章小结第27-28页
3 硅超表面结构的设计与仿真第28-37页
    3.1 硅超表面结构的仿真设计第28-32页
    3.2 硅超表面仿真结果的分析第32-35页
    3.3 硅超表面磁谐振原理分析第35-36页
    3.4 本章小结第36-37页
4 硅超表面的制备与测试第37-48页
    4.1 硅超表面的工艺制作第37-42页
    4.2 硅超表面中三倍频光的测试系统搭建第42-44页
    4.3 超表面的测试结果分析第44-46页
    4.4 本章小结第46-48页
5 全文总结与工作展望第48-50页
    5.1 本文总结第48页
    5.2 下一步工作展望第48-50页
致谢第50-51页
参考文献第51-56页
附录1 攻读硕士学位期间发表的主要论文第56-57页
附录2 论文中缩略词含义第57页

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