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硅量子点双势垒浮栅存储器的研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
1 绪论第8-17页
    1.1 研究背景概述第8-9页
    1.2 非易失性存储器的发展前景与市场第9-11页
    1.3 新型非易失性存储器的出现第11-15页
    1.4 本文结构与章节安排第15-17页
2 非易失性存储器的工作机理第17-28页
    2.1 基本结构原理第17-19页
    2.2 电荷输运机制第19-25页
    2.3 非易失性存储器的可靠性第25-28页
3 硅量子点双势垒浮栅存储器第28-43页
    3.1 多种硅量子点存储器结构模型第29-33页
    3.2 硅量子点双势垒浮栅存储器工作原理第33-39页
    3.3 基于SICX的硅量子点双势垒浮栅存储器第39-43页
4 硅量子点双势垒浮栅存储器的模拟仿真第43-62页
    4.1 SILVACO TCAD仿真工具介绍第43-46页
    4.2 硅量子点双势垒浮栅存储器的写入/擦除模拟第46-50页
    4.3 硅量子点尺寸、数量对存储窗.的影响第50-54页
    4.4 不同模型结构的双势垒浮栅存储器模拟分析第54-62页
5 基于碳化硅材料的硅量子点双势垒浮栅结构的制备第62-70页
    5.1 硅量子点制备工艺第62-64页
    5.2 制备硅量子点母体材料的选择第64-65页
    5.3 制备富硅SICX薄膜第65-67页
    5.4 含硅量子点SICX材料浮栅存储结构制备第67-70页
6 总结第70-72页
致谢第72-73页
参考文献第73-78页
附录1攻读硕士学位期间发表的论文第78-79页
附录2攻读硕士学位期间申请的专利及获奖第79页

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