硅量子点双势垒浮栅存储器的研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 研究背景概述 | 第8-9页 |
| 1.2 非易失性存储器的发展前景与市场 | 第9-11页 |
| 1.3 新型非易失性存储器的出现 | 第11-15页 |
| 1.4 本文结构与章节安排 | 第15-17页 |
| 2 非易失性存储器的工作机理 | 第17-28页 |
| 2.1 基本结构原理 | 第17-19页 |
| 2.2 电荷输运机制 | 第19-25页 |
| 2.3 非易失性存储器的可靠性 | 第25-28页 |
| 3 硅量子点双势垒浮栅存储器 | 第28-43页 |
| 3.1 多种硅量子点存储器结构模型 | 第29-33页 |
| 3.2 硅量子点双势垒浮栅存储器工作原理 | 第33-39页 |
| 3.3 基于SICX的硅量子点双势垒浮栅存储器 | 第39-43页 |
| 4 硅量子点双势垒浮栅存储器的模拟仿真 | 第43-62页 |
| 4.1 SILVACO TCAD仿真工具介绍 | 第43-46页 |
| 4.2 硅量子点双势垒浮栅存储器的写入/擦除模拟 | 第46-50页 |
| 4.3 硅量子点尺寸、数量对存储窗.的影响 | 第50-54页 |
| 4.4 不同模型结构的双势垒浮栅存储器模拟分析 | 第54-62页 |
| 5 基于碳化硅材料的硅量子点双势垒浮栅结构的制备 | 第62-70页 |
| 5.1 硅量子点制备工艺 | 第62-64页 |
| 5.2 制备硅量子点母体材料的选择 | 第64-65页 |
| 5.3 制备富硅SICX薄膜 | 第65-67页 |
| 5.4 含硅量子点SICX材料浮栅存储结构制备 | 第67-70页 |
| 6 总结 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 附录1攻读硕士学位期间发表的论文 | 第78-79页 |
| 附录2攻读硕士学位期间申请的专利及获奖 | 第79页 |