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氧化铝生产新工艺中碳分母液的深度处理

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-14页
符号说明第14-15页
第一章 文献综述第15-25页
   ·引言第15-17页
     ·碱溶-碳分法氧化铝生产新工艺简介第15-16页
     ·溶出液和碳分母液中的杂质及其去除必要性第16-17页
   ·溶液中微量硅的分析方法第17-19页
     ·重量法第17页
     ·滴定法第17页
     ·电感耦合等离子体原子发射光谱法第17-18页
     ·X射线法第18页
     ·原子吸收光谱法第18页
     ·分光光度法第18-19页
   ·溶液中微量硅的去除方法第19-20页
     ·脱硅方法第19-20页
     ·脱硅剂脱硅第20页
   ·溶液中微量铝的分析方法第20-22页
     ·光度法第20-21页
     ·电化学法第21-22页
   ·溶液中微量铝的去除方法第22-23页
     ·物理方法第22页
     ·化学方法第22页
     ·电化学除杂第22-23页
   ·本研究工作的主要内容及意义第23-24页
   ·取得的阶段性成果第24-25页
第二章 丁基罗丹明B-钼蓝分光光度法测定碳分母液中的微量硅第25-43页
   ·前言第25页
   ·实验部分第25-26页
     ·实验药品第25-26页
     ·实验仪器第26页
   ·结果与讨论第26-40页
     ·硅钼蓝法测定碳分60%母液中微量硅含量第26-32页
     ·掩蔽剂的选择第32-34页
     ·钼蓝法测定硅含量部分小结第34页
     ·丁基罗丹明B——硅钼黄分光光度法测定碳分60%母液微量硅第34-35页
     ·丁基罗丹明B——钼蓝分光光度法测定碳分60%微量硅第35-40页
   ·小结第40-43页
第三章 碳酸钙法固相脱硅第43-55页
   ·前言第43页
   ·实验部分第43-44页
     ·实验药品第43页
     ·实验仪器第43-44页
   ·结果与讨论第44-53页
     ·脱硅条件的选择第44-50页
     ·脱硅部分小结第50页
     ·不同硅量指数的母液脱硅实验第50-52页
     ·脱硅试验深入研究第52-53页
   ·小结第53-55页
第四章 预制铋膜电极表面吸附溶出伏安法测定碳分母液中微量铝第55-65页
   ·前言第55页
   ·实验部分第55-56页
     ·试验试剂第55-56页
     ·实验仪器第56页
   ·结果与讨论第56-64页
     ·铂电极预处理第56页
     ·镀铋第56-59页
     ·铋膜应用于Al含量的测定的条件选择第59-62页
     ·测试结果第62-64页
   ·小结第64-65页
第五章 电化学法去除碳分母液中的微量铝第65-77页
   ·前言第65页
   ·试验部分第65-66页
     ·实验试剂第65页
     ·实验仪器第65-66页
   ·结果与讨论第66-75页
     ·设计装置第66页
     ·单因素实验第66-69页
     ·优化除杂条件即做正交试验第69-73页
     ·在最优条件下的除杂实验第73-75页
   ·小结第75-77页
第六章 结论第77-79页
参考文献第79-83页
致谢第83-84页
研究成果及发表的学术论文第84-85页
导师及作者简介第85-86页
硕士研究生学位论文答辩委员会决议书第86-87页

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