摘要 | 第2-3页 |
Abstract | 第3-4页 |
1 绪论 | 第7-16页 |
1.1 研究背景 | 第7-8页 |
1.2 激光熔覆技术 | 第8-10页 |
1.3 激光熔覆形貌的研究现状 | 第10-11页 |
1.4 倾斜基体激光熔覆技术 | 第11-14页 |
1.5 倾斜基体激光熔覆现存问题 | 第14页 |
1.6 课题研究内容 | 第14-16页 |
2 试验条件及相关理论 | 第16-21页 |
2.1 试验条件及试验方案 | 第16-18页 |
2.1.1 试验材料 | 第16页 |
2.1.2 试验设备 | 第16-17页 |
2.1.3 试验方案 | 第17-18页 |
2.2 激光熔覆相关基础理论 | 第18-20页 |
2.2.1 粉末束与激光束相互作用理论 | 第18-19页 |
2.2.2 米氏散射理论 | 第19-20页 |
2.3 本章小结 | 第20-21页 |
3 倾斜基体激光熔覆形貌研究 | 第21-39页 |
3.1 倾斜基体上熔深形状研究 | 第21-29页 |
3.1.1 基体表面激光功率密度模型建立 | 第22-23页 |
3.1.2 激光束与粉末相互作用 | 第23-24页 |
3.1.3 基体表面激光功率密度分布 | 第24-25页 |
3.1.4 熔深形状的理论及试验分析 | 第25-29页 |
3.2 倾斜基体上熔覆层形状研究 | 第29-37页 |
3.2.1 基体倾斜角度与熔覆层形状的关系 | 第29-33页 |
3.2.2 倾斜基体激光熔覆的熔覆层形状的表征方式 | 第33-37页 |
3.3 倾斜基体上熔覆层表面质量分析 | 第37页 |
3.4 本章小结 | 第37-39页 |
4 工艺参数对倾斜基体上熔覆层形貌的影响 | 第39-47页 |
4.1 工艺参数对倾斜基体上熔深形状的影响 | 第39-42页 |
4.1.1 激光功率与熔深的关系 | 第39-40页 |
4.1.2 送粉率与熔深的关系 | 第40-41页 |
4.1.3 扫描速度与熔深的关系 | 第41页 |
4.1.4 送粉率与熔深偏移量之间的关系 | 第41-42页 |
4.2 工艺参数对倾斜基体上熔覆层形状的影响规律 | 第42-46页 |
4.2.1 激光功率对熔覆层形貌的影响 | 第42-44页 |
4.2.2 送粉率对熔覆层形貌的影响 | 第44-45页 |
4.2.3 扫描速度对熔覆层形貌的影响 | 第45-46页 |
4.3 本章小结 | 第46-47页 |
5 多道和多层激光熔覆层形貌研究 | 第47-64页 |
5.1 倾斜基体激光熔覆搭接率建模 | 第47-49页 |
5.2 单道单层熔覆不同扫描方向的比较 | 第49-56页 |
5.2.1 熔覆层形貌分析 | 第50-54页 |
5.2.2 熔覆层表面质量分析 | 第54-55页 |
5.2.3 扫描方式的选择 | 第55-56页 |
5.3 多道单层激光熔覆不同搭接形式的对比 | 第56-58页 |
5.4 多道多层激光熔覆实例研究与分析 | 第58-62页 |
5.4.1 试验要求 | 第58-59页 |
5.4.2 试验步骤 | 第59-61页 |
5.4.3 试验结果及分析 | 第61-62页 |
5.5 本章小结 | 第62-64页 |
结论 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-69页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第69-70页 |
致谢 | 第70-72页 |