摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-22页 |
1.1 课题研究的背景和意义 | 第10-11页 |
1.2 有机光探测器简介 | 第11-14页 |
1.2.1 有机光电材料 | 第12-13页 |
1.2.2 有机光探测器的工作原理 | 第13-14页 |
1.3 有机光探测器的发展 | 第14-21页 |
1.3.1 给受体材料的发展现状 | 第15-17页 |
1.3.2 器件结构的发展现状 | 第17-19页 |
1.3.3 界面修饰材料的发展现状 | 第19-21页 |
1.4 本论文的主要研究内容和方法 | 第21-22页 |
第2章 实验方法 | 第22-31页 |
2.1 实验材料与设备 | 第22-24页 |
2.2 高增益有机光探测器的制备 | 第24-26页 |
2.2.1 有机光探测器的制备 | 第24页 |
2.2.2 两性离子修饰的有机光探测器的制备 | 第24-25页 |
2.2.3 氨基酸修饰的高增益有机光探测器的制备 | 第25-26页 |
2.3 有机光探测器的表征 | 第26-31页 |
2.3.1 光谱响应范围表征方法 | 第26-27页 |
2.3.2 线性动态范围表征方法 | 第27页 |
2.3.3 响应强度特性表征方法 | 第27-29页 |
2.3.4 响应速度特性表征方法 | 第29-30页 |
2.3.5 薄膜表面形貌表征方法 | 第30页 |
2.3.6 其他表征方法 | 第30-31页 |
第3章 两性离子修饰的有机光探测器 | 第31-51页 |
3.1 引言 | 第31页 |
3.2 两性离子修饰有机光探测器紫外-可见吸收光谱 | 第31-32页 |
3.3 两性离子修饰有机光探测器参数优化 | 第32-40页 |
3.3.1 不同器件结构 | 第32-34页 |
3.3.2 界面修饰材料浓度和厚度 | 第34-37页 |
3.3.3 活性层不同比例和厚度 | 第37-39页 |
3.3.4 热处理退火工艺 | 第39-40页 |
3.4 两性离子修饰有机光探测器性能 | 第40-47页 |
3.4.1 界面修饰材料对响应强度的影响 | 第40-44页 |
3.4.2 界面修饰材料对响应速度的影响 | 第44-45页 |
3.4.3 界面修饰材料对线性度的影响 | 第45-47页 |
3.5 偏压下界面修饰材料光探测器性能 | 第47-48页 |
3.6 界面修饰有机光探测器工作机理 | 第48-49页 |
3.7 本章小结 | 第49-51页 |
第4章 氨基酸修饰的高增益有机光探测器 | 第51-76页 |
4.1 引言 | 第51页 |
4.2 高增益有机光探测器的性能表征 | 第51-58页 |
4.2.1 高增益光探测器的紫外-可见吸收光谱 | 第52-53页 |
4.2.2 高增益光探测器的响应强度特性 | 第53-55页 |
4.2.3 高增益光探测器的响应速度特性 | 第55-56页 |
4.2.4 高增益光探测器的线性度及稳定性 | 第56-58页 |
4.3 两性离子界面修饰优化高增益光探测器 | 第58-63页 |
4.3.1 不同氨基酸修饰对高增益光探测器的影响 | 第58-60页 |
4.3.2 氨基酸修饰TiO2对高增益光探测器的影响 | 第60-61页 |
4.3.3 两性离子修饰对高增益光探测器的影响 | 第61-62页 |
4.3.4 受体材料对高增益光探测器的影响 | 第62-63页 |
4.4 高增益有机光探测器的机理研究 | 第63-74页 |
4.4.1 陷阱在高增益光探测器中的作用 | 第63-68页 |
4.4.2 界面异质结在高增益光探测器中的作用 | 第68-72页 |
4.4.3 高增益光探测的工作机理 | 第72-74页 |
4.5 本章小结 | 第74-76页 |
结论 | 第76-78页 |
参考文献 | 第78-84页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文及其他成果 | 第84-86页 |
致谢 | 第86页 |