| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 氮氧化物的去除方法 | 第9-11页 |
| 1.3 低温等离子体技术 | 第11-14页 |
| 1.3.1 低温等离子体概述 | 第11-13页 |
| 1.3.2 介质阻挡放电概述 | 第13-14页 |
| 1.4 气液两相DBD处理污染物研究现状 | 第14-17页 |
| 1.4.1 气相介质阻挡放电处理污染物研究现状 | 第14-15页 |
| 1.4.2 气液两相介质阻挡放电处理污染物研究现状 | 第15-17页 |
| 1.5 本文的研究目标 | 第17页 |
| 1.6 本文的研究内容 | 第17-18页 |
| 2 实验设备和实验方法 | 第18-24页 |
| 2.1 实验装置 | 第18-21页 |
| 2.2 实验流程 | 第21页 |
| 2.3 气液两相介质阻挡放电电压、电流测量 | 第21页 |
| 2.4 光学参数测量方法 | 第21-23页 |
| 2.4.1 发射光谱的基本原理 | 第22页 |
| 2.4.2 发射光谱强度 | 第22-23页 |
| 2.5 公式定义 | 第23-24页 |
| 3 气液两相介质阻挡放电光谱分析 | 第24-32页 |
| 3.1 液相的加入对羟基光谱强度的影响 | 第25-26页 |
| 3.2 NaOH溶液浓度对羟基光谱强度的影响 | 第26-27页 |
| 3.3 峰值电压对羟基光谱强度的影响 | 第27页 |
| 3.4 电源频率对羟基光谱强度的影响 | 第27-28页 |
| 3.5 空气相对湿度对羟基光谱强度的影响 | 第28-29页 |
| 3.6 小结 | 第29-32页 |
| 4 外部实验条件对气液两相DBD处理NO_X的影响 | 第32-46页 |
| 4.1 气液两相DBD的脱硝机理 | 第32-33页 |
| 4.2 峰值电压对气液两相DBD脱除NO_X的影响 | 第33-34页 |
| 4.3 气体停留时间对气液两相DBD脱除NO_X的影响 | 第34-36页 |
| 4.4 起始浓度对气液两相DBD脱除NO_X的影响 | 第36-38页 |
| 4.5 气体流速对气液两相DBD脱除NO_X的影响 | 第38-40页 |
| 4.6 NaOH浓度对气液两相DBD脱除NO_X的影响 | 第40-41页 |
| 4.7 空气湿度对气液两相DBD脱除NO_X的影响 | 第41-42页 |
| 4.8 小结 | 第42-46页 |
| 5 结论与展望 | 第46-50页 |
| 5.1 本文主要结论 | 第46-47页 |
| 5.2 展望 | 第47-50页 |
| 致谢 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文、专利、获奖情况 | 第58页 |
