| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 课题背景及研究目的和意义 | 第9-10页 |
| 1.2. 国内外研究现状及分析 | 第10-19页 |
| 1.2.1. 钛合金的氧化 | 第10-11页 |
| 1.2.2 磁控溅射法制备 Ti-Al-(Cr)涂层 | 第11-16页 |
| 1.2.3 F 离子注入 Ti-Al 合金 | 第16-19页 |
| 1.3 本文主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 实验材料、设备及实验方法 | 第20-25页 |
| 2.1 基体和溅射靶材 | 第20-21页 |
| 2.2 磁控溅射设备 | 第21-22页 |
| 2.3 F 离子注入设备 | 第22-23页 |
| 2.4 分析测试设备 | 第23页 |
| 2.4.1 X 射线衍射仪(XRD) | 第23页 |
| 2.4.2 扫描电子显微镜 | 第23页 |
| 2.4.3 摩擦性能测试 | 第23页 |
| 2.4.4 膜基结合力测试 | 第23页 |
| 2.5 高温防护性能实验 | 第23-25页 |
| 2.5.1 恒温氧化实验 | 第24页 |
| 2.5.2 循环氧化实验 | 第24-25页 |
| 第3章 TiAl 涂层的制备及性能研究 | 第25-37页 |
| 3.1 磁控溅射制备 TiAl 涂层 | 第25-29页 |
| 3.1.1 射频磁控溅射制备 TiAl 涂层 | 第25-26页 |
| 3.1.2 直流磁控溅射制备 TiAl 涂层 | 第26-29页 |
| 3.2 TiAl 靶溅射光谱谱线分析 | 第29-30页 |
| 3.3 F 离子注入 TiAl 涂层 | 第30页 |
| 3.4 TiAl 涂层的组织结构 | 第30-34页 |
| 3.4.1 TiAl 涂层的相组成分析 | 第30-33页 |
| 3.3.2 TiAl 涂层的形貌及其能谱分析 | 第33-34页 |
| 3.5 TiAl 涂层的力学性能分析 | 第34-35页 |
| 3.5.1 TiAl 涂层的膜基结合力 | 第34页 |
| 3.5.2 TiAl 涂层的摩擦磨损性能 | 第34-35页 |
| 3.6 本章小结 | 第35-37页 |
| 第4章 TiAl 涂层的高温氧化行为 | 第37-55页 |
| 4.1 引言 | 第37页 |
| 4.2 实验方法 | 第37-38页 |
| 4.3 基体与 Ti-45Al 涂层的等温氧化 | 第38-48页 |
| 4.3.1 Ti-45Al 涂层的等温氧化行为 | 第38-40页 |
| 4.3.2 Ti-45Al 涂层等温氧化后 XRD 分析及表面形貌 | 第40-44页 |
| 4.3.3 Ti-45Al 涂层等温氧化后截面形貌 | 第44-48页 |
| 4.4 基体与涂层的循环氧化性能 | 第48-53页 |
| 4.4.1 涂层的循环氧化行为 | 第48-50页 |
| 4.4.2 循环氧化表面与截面形貌 | 第50-53页 |
| 4.5 本章小结 | 第53-55页 |
| 第5章 Al 沉积辅助磁控溅射制备 TiAl 涂层的性能 | 第55-65页 |
| 5.1 引言 | 第55页 |
| 5.2 实验方法 | 第55-56页 |
| 5.3 涂层的组织结构 | 第56-58页 |
| 5.3.1 涂层的相组成分析 | 第56页 |
| 5.3.2 涂层的表面形貌及能谱 | 第56-57页 |
| 5.3.3 涂层的膜基结合力 | 第57-58页 |
| 5.4 涂层的等温氧化 | 第58-63页 |
| 5.4.1 涂层的等温氧化行为 | 第58-59页 |
| 5.4.2 涂层等温氧化后 XRD 分析及其表面形貌 | 第59-61页 |
| 5.4.3 涂层等温氧化后截面形貌及线扫描能谱 | 第61-63页 |
| 5.5 本章小结 | 第63-65页 |
| 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
