| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 前言 | 第10页 |
| 1.2 半导体光催化剂 | 第10-13页 |
| 1.2.1 半导体光催化剂的基本原理 | 第10-11页 |
| 1.2.2 决定光催化活性的因素 | 第11-13页 |
| 1.3 新型可见光光催化剂的研究进展 | 第13-19页 |
| 1.3.1 无机半导体可见光光催化材料研究现状 | 第13-17页 |
| 1.3.2 有机聚合物半导体光催化材料研究进展 | 第17-19页 |
| 1.4 水中污染物和大气中NO的概况 | 第19-21页 |
| 1.4.1 水中的有机污染物及治理 | 第19-20页 |
| 1.4.2 大气中的污染物及治理 | 第20-21页 |
| 1.5 本文的选题依据与主要研究内容 | 第21-23页 |
| 2 实验部分 | 第23-30页 |
| 2.1 实验材料 | 第23-24页 |
| 2.1.1 主要试剂 | 第23-24页 |
| 2.1.2 主要仪器 | 第24页 |
| 2.2 催化剂的制备 | 第24-25页 |
| 2.3 表征分析方法 | 第25-27页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第25页 |
| 2.3.2 热重(TG) | 第25页 |
| 2.3.3 比表面积(BET) | 第25页 |
| 2.3.4 红外(FT-IR) | 第25-26页 |
| 2.3.5 扫面和透射电镜(SEM,TEM) | 第26页 |
| 2.3.6 电子能谱(XPS) | 第26页 |
| 2.3.7 紫外可见漫反射光谱(UV-vis DRS) | 第26-27页 |
| 2.3.8 光致发光光谱(PL) | 第27页 |
| 2.3.9 光电流密度(I-t) | 第27页 |
| 2.3.10 电化学阻抗(EIS) | 第27页 |
| 2.4 光催化活性评价 | 第27-30页 |
| 2.4.1 光催化降解RhB | 第27-28页 |
| 2.4.2 光催化氧化NO | 第28-30页 |
| 3 g-C_3N_4/BiVO_4液固体系光催化降解RhB及其作用机制的研究 | 第30-45页 |
| 3.1 催化剂的制备 | 第30-31页 |
| 3.2 结果和讨论 | 第31-44页 |
| 3.2.1 g-C_3N_4/BiVO_4的XRD分析 | 第31-32页 |
| 3.2.2 g-C_3N_4/BiVO_4的TG分析 | 第32-33页 |
| 3.2.3 g-C_3N_4/BiVO_4的FT-IR分析 | 第33-34页 |
| 3.2.4 g-C_3N_4/BiVO_4的XPS分析 | 第34-36页 |
| 3.2.5 g-C_3N_4/BiVO_4的形貌表征 | 第36-37页 |
| 3.2.6 g-C_3N_4/BiVO_4的光学吸附性质 | 第37-38页 |
| 3.2.7 g-C_3N_4/BiVO_4可见光下对RhB的降解 | 第38-39页 |
| 3.2.8 光催化降解机制研究 | 第39-42页 |
| 3.2.9 g-C_3N_4/BiVO_4的稳定性分析 | 第42-44页 |
| 3.3 本章小结 | 第44-45页 |
| 4 g-C_3N_4/BiVO_4气液固体系光催化氧化NO及其作用机制的研究 | 第45-60页 |
| 4.1 催化剂的制备 | 第45页 |
| 4.2 结果和讨论部分 | 第45-51页 |
| 4.2.1 g-C_3N_4/BiVO_4的结构表征 | 第45-47页 |
| 4.2.2 g-C_3N_4/BiVO_4的形貌表征 | 第47-48页 |
| 4.2.3 g-C_3N_4/BiVO_4的XPS分析 | 第48-50页 |
| 4.2.4 g-C_3N_4/BiVO_4的光吸收性能 | 第50-51页 |
| 4.3 g-C_3N_4/BiVO_4的光催化氧化NO | 第51-59页 |
| 4.3.1 g-C_3N_4/BiVO_4光催化氧化NO活性 | 第51-56页 |
| 4.3.2 g-C_3N_4/BiVO_4催化机理 | 第56-57页 |
| 4.3.3 g-C_3N_4/BiVO_4的PL,I-t和EIS分析 | 第57-59页 |
| 4.4 本章小结 | 第59-60页 |
| 5 结论 | 第60-62页 |
| 5.1 结论 | 第60-61页 |
| 5.2 创新点 | 第61页 |
| 5.3 展望 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-72页 |
| 附录 | 第72页 |
