| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-31页 |
| 1.1 铁电材料简介 | 第11-14页 |
| 1.2 铁电材料的分类 | 第14-17页 |
| 1.3 铁电薄膜材料的发展概况及应用 | 第17-25页 |
| 1.3.1 铁电薄膜的发展简介 | 第17-19页 |
| 1.3.2 铁电薄膜的应用 | 第19-25页 |
| 1.4 铋基铁电薄膜的研究进展 | 第25-29页 |
| 1.4.1 Bi_4Ti_3O_(12)（BTO）基铁电薄膜的研究进展 | 第25-28页 |
| 1.4.2 BiFeO_3（BFO）基铁电薄膜的研究进展 | 第28-29页 |
| 1.5 本论文的背景、意义及主要内容 | 第29-31页 |
| 第2章 铁电薄膜的制备方法与表征 | 第31-38页 |
| 2.1 铁电薄膜的制备方法 | 第31-33页 |
| 2.1.1 磁控溅射法 | 第31页 |
| 2.1.2 脉冲激光沉积法（PLD） | 第31-32页 |
| 2.1.3 金属有机化学气相沉积法（MOCVD） | 第32页 |
| 2.1.4 溶胶-凝胶法（Sol-gel） | 第32-33页 |
| 2.2 铁电薄膜的Sol-gel法制备 | 第33-37页 |
| 2.2.1 实验设备及试剂 | 第33-34页 |
| 2.2.2 制膜方法及工艺流程 | 第34-37页 |
| 2.3 铁电薄膜的表征手法 | 第37-38页 |
| 第3章 γ-射线辐照对掺La铁电薄膜BLTO性能的影响 | 第38-51页 |
| 3.1 Sol-gel法制备Bi_(3.25)La_(0.75)Ti_3O_(12)（BLTO）铁电薄膜 | 第38-40页 |
| 3.2 构架Metal/Ferroelectric films/Metal（MFM）电容结构 | 第40-41页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第41-50页 |
| 3.3.1 XRD衍射 | 第41-43页 |
| 3.3.2 SEM表面形貌 | 第43-44页 |
| 3.3.3 铁电性 | 第44-46页 |
| 3.3.4 C-V特性曲线 | 第46-48页 |
| 3.3.5 漏电流性能 | 第48-49页 |
| 3.3.6 抗疲劳性能 | 第49-50页 |
| 3.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 第4章 低价Sb~(3+)掺杂对Bi_(4-x)Sb_xTi_3O_(12)铁电薄膜的影响 | 第51-61页 |
| 4.1 Sol-gel法制备Bi_(4-x)Sb_xTi_3O_(12)铁电薄膜 | 第51-52页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第52-60页 |
| 4.2.1 XRD衍射 | 第52-53页 |
| 4.2.2 SEM表面形貌 | 第53-54页 |
| 4.2.3 漏电流性能 | 第54-55页 |
| 4.2.4 铁电性 | 第55-58页 |
| 4.2.5 抗疲劳性能 | 第58-59页 |
| 4.2.6 C-V特性曲线 | 第59-60页 |
| 4.3 本章小结 | 第60-61页 |
| 第5章 Bi_(2-x)Sb_xTi_2O_7薄膜的制备及作为缓冲层对BSTO铁电薄膜的影响 | 第61-81页 |
| 5.1 Sol-gel法制备Bi_(2-x)Sb_xTi_2O_7粉体 | 第62-68页 |
| 5.2 Sol-gel法制备Bi_(2-x)Sb_xTi_2O_7薄膜 | 第68页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第68-75页 |
| 5.3.1 XRD衍射 | 第68-70页 |
| 5.3.2 SEM表面形貌 | 第70-72页 |
| 5.3.3 C-V特性曲线 | 第72-74页 |
| 5.3.4 漏电流性能 | 第74-75页 |
| 5.4 Sol-gel法制备Bi_(1.7)Sb_(0.3)Ti_2O_7/BSTO复合铁电薄膜 | 第75-76页 |
| 5.5 结果与讨论 | 第76-80页 |
| 5.5.1 XRD衍射 | 第76页 |
| 5.5.2 SEM表面形貌 | 第76-77页 |
| 5.5.3 铁电性 | 第77-78页 |
| 5.5.4 抗疲劳性能 | 第78页 |
| 5.5.5 漏电流性能 | 第78-79页 |
| 5.5.6 C-V特性曲线 | 第79-80页 |
| 5.6 本章小结 | 第80-81页 |
| 第6章 Nd~(3+)、Co~(2+)掺杂对多铁薄膜BFO的影响 | 第81-95页 |
| 6.1 Sol-gel法制备Bi_(1-x)Nd_xFeO_3铁电薄膜 | 第81-83页 |
| 6.2 结果与讨论 | 第83-86页 |
| 6.2.1 SEM表面形貌 | 第83页 |
| 6.2.2 XRD衍射 | 第83-84页 |
| 6.2.3 铁电性 | 第84-85页 |
| 6.2.4 漏电流性能 | 第85-86页 |
| 6.3 Sol-gel法制备BiFe_(1-y)CoyO_3薄膜 | 第86-87页 |
| 6.4 结果与讨论 | 第87-89页 |
| 6.4.1 SEM表面形貌 | 第87-88页 |
| 6.4.2 铁电性 | 第88页 |
| 6.4.3 漏电流特性 | 第88-89页 |
| 6.5 Sol-gel法制备Bi_(0.85)Nd_(0.15)Fe_(0.85)Co_(0.15)O_3（BNFCO）铁电薄膜 | 第89-90页 |
| 6.6 结果与讨论 | 第90-91页 |
| 6.6.1 铁电性 | 第90页 |
| 6.6.2 漏电流特性 | 第90-91页 |
| 6.7 磁性与内能的数值计算 | 第91-93页 |
| 6.8 本章小结 | 第93-95页 |
| 第7章 结论 | 第95-97页 |
| 参考文献 | 第97-112页 |
| 在学研究成果 | 第112-113页 |
| 致谢 | 第113页 |
