摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6页 |
1 绪论 | 第10-23页 |
1.0 半导体光催化原理 | 第11-12页 |
1.1 ZnO的研究进展 | 第12-14页 |
1.1.1 ZnO的结构与性质 | 第12-13页 |
1.1.2 ZnO的制备 | 第13-14页 |
1.2 Ag/AgCl的研究进展 | 第14-15页 |
1.2.1 AgCl的结构与性质 | 第14-15页 |
1.2.2 Ag/AgCl的应用 | 第15页 |
1.3 光催化剂的改性 | 第15-20页 |
1.3.1 贵金属沉积 | 第16-17页 |
1.3.2 金属离子掺杂 | 第17页 |
1.3.3 非金属掺杂 | 第17-18页 |
1.3.4 染料光敏化 | 第18页 |
1.3.5 半导体复合 | 第18-19页 |
1.3.6 负载 | 第19-20页 |
1.4 影响半导体光催化性能的因素 | 第20-21页 |
1.4.1 晶体的影响 | 第20页 |
1.4.2 粒子尺寸与比表面积的影响 | 第20-21页 |
1.4.3 表面性质的影响 | 第21页 |
1.4.4 其他因素 | 第21页 |
1.5 立题思想和主要内容 | 第21-23页 |
2 实验内容 | 第23-27页 |
2.1 主要实验试剂 | 第23-24页 |
2.2 实验仪器 | 第24-25页 |
2.3 样品的分析与表征 | 第25-26页 |
2.3.1 X射线衍射分析 | 第25页 |
2.3.2 透射电子显微镜分析 | 第25页 |
2.3.3 热重分析仪 | 第25页 |
2.3.4 比表面积及孔径分布测试 | 第25页 |
2.3.5 拉曼光谱仪 | 第25-26页 |
2.3.6 荧光光谱仪 | 第26页 |
2.3.7 X射线光电子能谱分析XPS | 第26页 |
2.4 光催化性能测试 | 第26-27页 |
3 层状Ag/ZnO/GO光催化剂的制备及其光催化性能研究 | 第27-41页 |
3.1 引言 | 第27页 |
3.2 实验部分 | 第27-29页 |
3.2.1 氧化石墨烯的制备 | 第27-28页 |
3.2.2 ZnO/GO复合材料的制备 | 第28页 |
3.2.3 Ag/ZnO/GO复合材料的制备 | 第28页 |
3.2.4 光催化性能实验 | 第28-29页 |
3.3 结果与讨论 | 第29-39页 |
3.3.1 层状Ag/ZnO/GO复合材料的表征 | 第29-36页 |
3.3.2 层状Ag/ZnO/GO复合材料的光催化性能研究 | 第36-38页 |
3.3.3 层状Ag/ZnO/GO复合材料的光催化机理研究 | 第38-39页 |
3.4 本章小结 | 第39-41页 |
4 Ag/ ZnO/g-C_3N_4复合材料的制备及其光催化性能研究 | 第41-55页 |
4.1 引言 | 第41-42页 |
4.2 实验部分 | 第42-43页 |
4.2.1 多孔石墨相氮化碳的制备 | 第42页 |
4.2.2 二维纳米层状石墨相氮化碳的制备 | 第42页 |
4.2.3 ZnO/g-C_3N_4复合材料的制备 | 第42页 |
4.2.4 Ag/ZnO/g-C_3N_4复合材料的制备 | 第42-43页 |
4.2.5 光催化性能实验 | 第43页 |
4.3 结果与讨论 | 第43-54页 |
4.3.1 Ag/ZnO/g-C_3N_4复合材料的表征 | 第43-51页 |
4.3.2 Ag/ZnO/ g-C_3N_4光催化性能研究 | 第51-53页 |
4.3.3 Ag/ZnO/ g-C_3N_4光催化机理研究 | 第53-54页 |
4.4 本章小结 | 第54-55页 |
5 Ag/AgCl/g-C_3N_4等离子体共振光催化剂的制备及其光催化性能研究 | 第55-68页 |
5.1 引言 | 第55-56页 |
5.2 实验部分 | 第56-57页 |
5.2.1 CNAAC等离子体光催化剂的制备 | 第56-57页 |
5.2.2 光催化实验 | 第57页 |
5.3 结果与讨论 | 第57-67页 |
5.3.1 Ag/AgCl/g-C_3N_4复合材料的表征 | 第57-65页 |
5.3.2 Ag/AgCl/g-C_3N_4复合材料的光催化性能研究 | 第65页 |
5.3.3 Ag/AgCl/g-C_3N_4复合材料的光催化机理研究 | 第65-67页 |
5.4 本章小结 | 第67-68页 |
6 全文总结 | 第68-70页 |
致谢 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-77页 |
附录 | 第77页 |