摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-9页 |
第1章 绪论 | 第12-34页 |
1.1 引言 | 第12-15页 |
1.2 智能材料和机敏材料 | 第15-22页 |
1.2.1 智能材料的概念 | 第15-16页 |
1.2.2 常见的机敏材料 | 第16-22页 |
1.3 同步辐射X射线吸收精细结构(XAFS)技术 | 第22-28页 |
1.3.1 X射线基础 | 第22-23页 |
1.3.2 XAFS基本原理 | 第23-26页 |
1.3.3 XAFS常规实验装置和方法 | 第26-28页 |
参考文献 | 第28-34页 |
第2章 钨掺杂二氧化钒的结构和相变的常温研究 | 第34-58页 |
2.1 引言 | 第34-37页 |
2.1.1 VO_2的基本机构和相变机敏特性 | 第34-36页 |
2.1.2 掺杂VO_2的研究背景 | 第36-37页 |
2.2 样品合成与结构表征 | 第37-40页 |
2.2.1 样品合成 | 第37页 |
2.2.2 基础表征:组分测定,XRD、DSC测试 | 第37-38页 |
2.2.3 XAFS测试:透射法与荧光法 | 第38-40页 |
2.3 结果与讨论 | 第40-52页 |
2.3.1 W-VO_2样品的基础结构信息 | 第40-41页 |
2.3.2 W-VO_2样品的V K边XAFS数据处理和整体结构演变 | 第41-45页 |
2.3.3 W-VO_2样品的W L3边XAFS数据处理和局域结构演变 | 第45-52页 |
2.4 本章小结 | 第52-54页 |
参考文献 | 第54-58页 |
第3章 钨掺杂二氧化钒的原位变温XAFS研究 | 第58-72页 |
3.1 引言 | 第58-59页 |
3.2 W-VO_2样品的原位变温XAFS测试 | 第59-61页 |
3.2.1 实验装置 | 第59-60页 |
3.2.2 原位变温XAFS测试 | 第60-61页 |
3.3 结果与讨论 | 第61-68页 |
3.3.1 W-VO_2样品的原位变温XAFS数据处理和分析 | 第61-65页 |
3.3.2 W-VO_2相变机理研究 | 第65-68页 |
3.4 本章小结 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-72页 |
第4章 铬掺杂二氧化钒的原位变温XAFS研究 | 第72-94页 |
4.1 引言 | 第72-74页 |
4.1.1 基本背景 | 第72-73页 |
4.1.2 铬掺杂二氧化钒的物相研究 | 第73-74页 |
4.2 样品合成与结构表征 | 第74-76页 |
4.2.1 样品合成 | 第74页 |
4.2.2 XRD和DSC表征 | 第74-75页 |
4.2.3 原位变温XAFS测试 | 第75-76页 |
4.3 结果与讨论 | 第76-88页 |
4.3.1 Cr-VO_2样品的常温晶体结构分析 | 第76-77页 |
4.3.2 Cr-VO_2样品的原位变温XAFS数据分析和结构拟合 | 第77-83页 |
4.3.3 Cr-VO_2的温致相变机理的讨论 | 第83-88页 |
4.4 本章小结 | 第88-90页 |
参考文献 | 第90-94页 |
致谢 | 第94-96页 |
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第96页 |