直流磁控溅射制备(Ti,Al)N薄膜相结构与划痕性能研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 硬质薄膜的分类 | 第11-14页 |
| 1.3 TiN基薄膜 | 第14-17页 |
| 1.4 薄膜的制备方法 | 第17-23页 |
| 1.4.1 物理气相沉积(PVD) | 第18-23页 |
| 1.4.2 化学气相沉积(CVD) | 第23页 |
| 1.5 课题研究内容及研究意义 | 第23-25页 |
| 1.5.1 研究意义 | 第23-24页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第24-25页 |
| 第2章 实验设备与实验方法 | 第25-39页 |
| 2.1 样品制备 | 第25-30页 |
| 2.1.1 基体材料 | 第25页 |
| 2.1.2 基体试样的预处理 | 第25-26页 |
| 2.1.3 薄膜的制备过程 | 第26-30页 |
| 2.2 样品制备设备 | 第30-33页 |
| 2.2.1 直流磁控溅射原理 | 第32-33页 |
| 2.3 划痕的检测 | 第33-35页 |
| 2.4 相结构的检测 | 第35-37页 |
| 2.5 表面形貌和成分的检测 | 第37页 |
| 2.6 划痕形貌的观察 | 第37-39页 |
| 第3章 结果与分析 | 第39-52页 |
| 3.1 关于样品 | 第39-40页 |
| 3.2 表面形貌和断面形貌 | 第40-45页 |
| 3.3 膜基结合力 | 第45-49页 |
| 3.4 XRD检测结果与分析 | 第49-52页 |
| 第4章 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 在学研究成果 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
