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直流磁控溅射制备(Ti,Al)N薄膜相结构与划痕性能研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第11-25页
    1.1 引言第11页
    1.2 硬质薄膜的分类第11-14页
    1.3 TiN基薄膜第14-17页
    1.4 薄膜的制备方法第17-23页
        1.4.1 物理气相沉积(PVD)第18-23页
        1.4.2 化学气相沉积(CVD)第23页
    1.5 课题研究内容及研究意义第23-25页
        1.5.1 研究意义第23-24页
        1.5.2 研究内容第24-25页
第2章 实验设备与实验方法第25-39页
    2.1 样品制备第25-30页
        2.1.1 基体材料第25页
        2.1.2 基体试样的预处理第25-26页
        2.1.3 薄膜的制备过程第26-30页
    2.2 样品制备设备第30-33页
        2.2.1 直流磁控溅射原理第32-33页
    2.3 划痕的检测第33-35页
    2.4 相结构的检测第35-37页
    2.5 表面形貌和成分的检测第37页
    2.6 划痕形貌的观察第37-39页
第3章 结果与分析第39-52页
    3.1 关于样品第39-40页
    3.2 表面形貌和断面形貌第40-45页
    3.3 膜基结合力第45-49页
    3.4 XRD检测结果与分析第49-52页
第4章 结论第52-53页
参考文献第53-56页
在学研究成果第56-57页
致谢第57-58页

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