| 目录 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| ·引言 | 第8-11页 |
| ·传统硅基存储器 | 第8页 |
| ·新型无机存储器 | 第8-11页 |
| ·新型有机存储器 | 第11页 |
| ·阻变存储器(RRAM) | 第11-15页 |
| ·阻变存储器分类 | 第12页 |
| ·电阻开关物理机制 | 第12-14页 |
| ·具有电阻开关特性的材料体系 | 第14-15页 |
| ·本文的研究思路和内容 | 第15-17页 |
| 第二章 薄膜与纳米微粒的制备和微结构观测方法简介 | 第17-22页 |
| ·常见薄膜制备方法简介 | 第17-19页 |
| ·磁控溅射原理简介 | 第17-18页 |
| ·HfO_X薄膜的制备条件和工艺 | 第18页 |
| ·薄膜沉积速率的标定 | 第18页 |
| ·γ-Fe_2O_3纳米微粒制备工艺和条件 | 第18-19页 |
| ·HfO_x/γ-Fe_2O_3/HfO_x(HFH)电容器结构的制备 | 第19页 |
| ·样品形貌及微结构表征方法 | 第19-21页 |
| ·MIM电容器结构电学性能表征 | 第21-22页 |
| 第三章 HfO_x薄膜和γ-Fe_2O_3纳米微粒微结构观测和成分分析 | 第22-25页 |
| ·γ-Fe_2O_3纳米微粒的形貌分析 | 第22页 |
| ·HFH结构样品的XPS观测与分析 | 第22-23页 |
| ·HFH结构样品的XRD观测与分析 | 第23-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 第四章 掺杂γ-Fe_2O_3纳米微粒HfO_x薄膜的电阻开关特性 | 第25-32页 |
| ·HFH结构电阻开关特性测量与分析 | 第25-28页 |
| ·HFH结构高低电阻态阻值比及稳定性研究 | 第28-29页 |
| ·HFH结构电阻翻转物理机制探讨 | 第29-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第五章 掺杂γ-Fe_2O_3纳米微粒HfO_x薄膜的电荷存储特性 | 第32-36页 |
| ·电荷存储原理简介 | 第32页 |
| ·Ag/HFH/Ag电容器结构的制备 | 第32-33页 |
| ·Ag/HFH/Ag电容器结构的电荷存储特性分析 | 第33-36页 |
| 第六章 掺杂γ-Fe_2O_3纳米微粒HfO_x薄膜的纳米磁性 | 第36-40页 |
| ·传统固体磁性材料与分类简介 | 第36-37页 |
| ·掺杂γ-Fe_2O_3纳米微粒HfO_x薄膜的纳米磁性 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第七章 结论与展望 | 第40-42页 |
| 参考文献 | 第42-50页 |
| 研究生期间发表论文 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51页 |
