四硫富瓦烯修饰的降酞菁衍生物的合成和性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-25页 |
| ·酞菁 | 第7页 |
| ·酞菁类化合物的发展与应用 | 第7-8页 |
| ·酞菁类化合物 | 第8-10页 |
| ·对称酞菁配合物的合成 | 第8-9页 |
| ·不对称酞菁配合物的合成 | 第9-10页 |
| ·四氮杂卟啉 | 第10-14页 |
| ·单接取代四氮杂卟啉 | 第11-12页 |
| ·并接取代四氮杂卟啉 | 第12-13页 |
| ·单接和并接混合取代四氮杂卟啉 | 第13-14页 |
| ·四硫富瓦烯 | 第14-15页 |
| ·四硫富瓦烯的相关性质 | 第15页 |
| ·四硫富瓦烯的应用 | 第15-16页 |
| ·含四硫富瓦烯结构单元的酞菁和四氮杂卟啉衍生物 | 第16-23页 |
| ·含有TTF单元的酞菁类化合物 | 第17-21页 |
| ·含有TTF结构单元的四氮杂卟啉类化合物 | 第21-23页 |
| ·本文研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 实验部分 | 第25-31页 |
| ·实验仪器、原料 | 第25-26页 |
| ·溶剂的精制 | 第26-27页 |
| ·化合物的合成 | 第27-31页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第31-53页 |
| ·化合物的结构表征 | 第31-46页 |
| ·硫杂冠醚修饰TTF的性能表征 | 第46-47页 |
| ·硫杂冠醚修饰TTF的电化学性质 | 第46页 |
| ·硫杂冠醚修饰TTF的紫外-可见吸收光谱 | 第46-47页 |
| ·含Mg的降酞菁目标产物的性能表征 | 第47-51页 |
| ·含Mg的降酞菁目标产物的电化学性质 | 第47-48页 |
| ·含Mg的降酞菁目标产物的紫外-可见吸收光谱 | 第48-49页 |
| ·含Mg的降酞菁目标产物的顺磁图谱（EPR） | 第49-50页 |
| ·含Mg的降酞菁目标产物的量化计算 | 第50-51页 |
| ·含 2H的降酞菁目标产物的性能表征 | 第51-53页 |
| ·含 2H的降酞菁目标产物的电化学性质 | 第51页 |
| ·含 2H的降酞菁目标产物的紫外-可见吸收光谱 | 第51-53页 |
| 第四章 结论 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 作者简介 | 第58页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第58页 |
