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磁控溅射制备AZO薄膜及其透明导电性质研究

中文摘要第1-4页
Abstract第4-9页
第一章 文献综述第9-25页
   ·引言第9页
   ·ZnO和AZO基本特性第9-14页
     ·ZnO的结构特性第10-11页
     ·ZnO:Al(AZO)薄膜性能第11-14页
   ·AZO薄膜的主要应用前景第14-18页
     ·光电显示领域中的透明电极第15-16页
     ·电磁屏蔽和防静电膜第16页
     ·面发热膜第16页
     ·气敏传感器第16-17页
     ·智能窗第17页
     ·触摸屏第17页
     ·红外隐身材料与热红外反射镜第17-18页
     ·太阳能光电转换领域中的异质结第18页
   ·AZO薄膜的主要制备方法第18-21页
     ·化学气相沉积法第18页
     ·喷雾热解法第18-19页
     ·溶胶凝胶(Sol-Gel)法第19页
     ·分子束外延法第19页
     ·脉冲激光沉积法第19-20页
     ·磁控溅射法第20-21页
   ·ZnO基薄膜的国内外研究现状第21-23页
     ·ZnO基薄膜的国外研究现状第22页
     ·ZnO基薄膜的国内研究现状第22-23页
   ·本论文的主要研究目的、意义及主要内容第23-25页
     ·研究目的和意义第23-24页
     ·主要研究内容第24-25页
第二章 AZO薄膜的制备方法、试验方法和应力分析第25-33页
   ·引言第25页
   ·磁控溅射基本原理第25-26页
   ·AZO薄膜制备及试验流程第26-30页
     ·试验设备第26页
     ·试验靶材第26页
     ·溅射工艺参数选择第26-28页
     ·溅射试验工艺流程第28-29页
     ·AZO薄膜的退火第29-30页
   ·AZO薄膜的组织结构和性能表征第30-32页
     ·X-射线衍射分析(XRD)第30-31页
     ·霍尔效应测试第31页
     ·透射谱第31页
     ·薄膜厚度测量第31-32页
     ·SEM及能谱分析第32页
   ·薄膜应力分析第32-33页
     ·薄膜应力定义和作用第32页
     ·AZO薄膜应力形成原因第32-33页
第三章 AZO薄膜组织结构研究第33-44页
   ·磁控溅射工艺对AZO薄膜结构的影响第33-37页
     ·氧氩比对AZO薄膜结构的影响第33-36页
     ·工作气压对AZO薄膜结构的影响第36-37页
     ·溅射功率对AZO薄膜结构的影响第37页
   ·退火工艺对AZO薄膜结构的影响第37-40页
     ·退火温度对AZO薄膜结构的影响第37-39页
     ·退火气氛对AZO薄膜结构的影响第39-40页
   ·AZO薄膜表面形貌分析第40-42页
   ·本章小结第42-44页
第四章 AZO薄膜光学性能第44-57页
   ·磁控溅射工艺对AZO薄膜透射谱的影响第44-50页
     ·氧氩比对AZO薄膜透射谱的影响第44-46页
     ·工作气压对AZO薄膜透射谱的影响第46-48页
     ·溅射功率对AZO薄膜透射谱的影响第48-50页
   ·退火工艺对AZO薄膜透射谱的影响第50-52页
     ·退火温度对AZO薄膜透射谱的影响第50-51页
     ·退火气氛对AZO薄膜透射谱的影响第51-52页
   ·薄膜折射率和厚度的理论计算第52-56页
   ·本章小结第56-57页
第五章 AZO薄膜的电学性质第57-62页
   ·磁控溅射工艺对AZO薄膜电学性能的影响第57-59页
     ·氧氩比AZO薄膜电学性能的影响第57-58页
     ·工作气压对AZO薄膜电学性能的影响第58-59页
     ·溅射功率对AZO薄膜电学性能的影响第59页
   ·退火工艺对AZO薄膜电学性能的影响第59-60页
     ·退火温度对AZO薄膜电学性能的影响第59-60页
     ·不同退火气氛对AZO薄膜电学性能的影响第60页
   ·本章小结第60-62页
结论第62-64页
参考文献第64-69页
致谢第69-70页
个人简历第70-71页
在读期间已发表和录用的论文第71页

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