磁控溅射制备AZO薄膜及其透明导电性质研究
中文摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-9页 |
第一章 文献综述 | 第9-25页 |
·引言 | 第9页 |
·ZnO和AZO基本特性 | 第9-14页 |
·ZnO的结构特性 | 第10-11页 |
·ZnO:Al(AZO)薄膜性能 | 第11-14页 |
·AZO薄膜的主要应用前景 | 第14-18页 |
·光电显示领域中的透明电极 | 第15-16页 |
·电磁屏蔽和防静电膜 | 第16页 |
·面发热膜 | 第16页 |
·气敏传感器 | 第16-17页 |
·智能窗 | 第17页 |
·触摸屏 | 第17页 |
·红外隐身材料与热红外反射镜 | 第17-18页 |
·太阳能光电转换领域中的异质结 | 第18页 |
·AZO薄膜的主要制备方法 | 第18-21页 |
·化学气相沉积法 | 第18页 |
·喷雾热解法 | 第18-19页 |
·溶胶凝胶(Sol-Gel)法 | 第19页 |
·分子束外延法 | 第19页 |
·脉冲激光沉积法 | 第19-20页 |
·磁控溅射法 | 第20-21页 |
·ZnO基薄膜的国内外研究现状 | 第21-23页 |
·ZnO基薄膜的国外研究现状 | 第22页 |
·ZnO基薄膜的国内研究现状 | 第22-23页 |
·本论文的主要研究目的、意义及主要内容 | 第23-25页 |
·研究目的和意义 | 第23-24页 |
·主要研究内容 | 第24-25页 |
第二章 AZO薄膜的制备方法、试验方法和应力分析 | 第25-33页 |
·引言 | 第25页 |
·磁控溅射基本原理 | 第25-26页 |
·AZO薄膜制备及试验流程 | 第26-30页 |
·试验设备 | 第26页 |
·试验靶材 | 第26页 |
·溅射工艺参数选择 | 第26-28页 |
·溅射试验工艺流程 | 第28-29页 |
·AZO薄膜的退火 | 第29-30页 |
·AZO薄膜的组织结构和性能表征 | 第30-32页 |
·X-射线衍射分析(XRD) | 第30-31页 |
·霍尔效应测试 | 第31页 |
·透射谱 | 第31页 |
·薄膜厚度测量 | 第31-32页 |
·SEM及能谱分析 | 第32页 |
·薄膜应力分析 | 第32-33页 |
·薄膜应力定义和作用 | 第32页 |
·AZO薄膜应力形成原因 | 第32-33页 |
第三章 AZO薄膜组织结构研究 | 第33-44页 |
·磁控溅射工艺对AZO薄膜结构的影响 | 第33-37页 |
·氧氩比对AZO薄膜结构的影响 | 第33-36页 |
·工作气压对AZO薄膜结构的影响 | 第36-37页 |
·溅射功率对AZO薄膜结构的影响 | 第37页 |
·退火工艺对AZO薄膜结构的影响 | 第37-40页 |
·退火温度对AZO薄膜结构的影响 | 第37-39页 |
·退火气氛对AZO薄膜结构的影响 | 第39-40页 |
·AZO薄膜表面形貌分析 | 第40-42页 |
·本章小结 | 第42-44页 |
第四章 AZO薄膜光学性能 | 第44-57页 |
·磁控溅射工艺对AZO薄膜透射谱的影响 | 第44-50页 |
·氧氩比对AZO薄膜透射谱的影响 | 第44-46页 |
·工作气压对AZO薄膜透射谱的影响 | 第46-48页 |
·溅射功率对AZO薄膜透射谱的影响 | 第48-50页 |
·退火工艺对AZO薄膜透射谱的影响 | 第50-52页 |
·退火温度对AZO薄膜透射谱的影响 | 第50-51页 |
·退火气氛对AZO薄膜透射谱的影响 | 第51-52页 |
·薄膜折射率和厚度的理论计算 | 第52-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
第五章 AZO薄膜的电学性质 | 第57-62页 |
·磁控溅射工艺对AZO薄膜电学性能的影响 | 第57-59页 |
·氧氩比AZO薄膜电学性能的影响 | 第57-58页 |
·工作气压对AZO薄膜电学性能的影响 | 第58-59页 |
·溅射功率对AZO薄膜电学性能的影响 | 第59页 |
·退火工艺对AZO薄膜电学性能的影响 | 第59-60页 |
·退火温度对AZO薄膜电学性能的影响 | 第59-60页 |
·不同退火气氛对AZO薄膜电学性能的影响 | 第60页 |
·本章小结 | 第60-62页 |
结论 | 第62-64页 |
参考文献 | 第64-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
个人简历 | 第70-71页 |
在读期间已发表和录用的论文 | 第71页 |