多晶硅副产SiCl4制备沉淀白炭黑的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-25页 |
| ·研究背景 | 第9-10页 |
| ·四氯化硅综合利用国内外研究现状及水平 | 第10-15页 |
| ·四氯化硅氢化还原为三氯氢硅 | 第10-13页 |
| ·四氯化硅合成气相二氧化硅 | 第13页 |
| ·四氯化硅合成硅酸乙酯 | 第13-14页 |
| ·光纤级四氯化硅 | 第14-15页 |
| ·白炭黑国内外研究现状及水平 | 第15-18页 |
| ·气相法 | 第15-16页 |
| ·溶胶一凝胶法 | 第16页 |
| ·反相胶束微乳液法 | 第16-17页 |
| ·沉淀法 | 第17-18页 |
| ·其他方法 | 第18页 |
| ·白炭黑制备过程中的团聚与分散 | 第18-21页 |
| ·表面改性 | 第19页 |
| ·控制溶液的pH 值 | 第19-20页 |
| ·加入反絮凝剂在颗粒表面形成双电层 | 第20页 |
| ·运用超声技术分散纳米颗粒 | 第20-21页 |
| ·采用适当洗涤、干燥、煅烧方式 | 第21页 |
| ·白炭黑的应用 | 第21-22页 |
| ·白炭黑的表征方法 | 第22-23页 |
| ·激光纳米粒度仪 | 第22-23页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第23页 |
| ·扫描电镜和能谱仪分析 | 第23页 |
| ·透射电镜分析 | 第23页 |
| ·本课题研究的内容 | 第23-25页 |
| 第二章 四氯化硅与水玻璃合成沉淀白炭黑 | 第25-44页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·实验部分 | 第25-27页 |
| ·实验药品 | 第25-26页 |
| ·主要实验仪器 | 第26页 |
| ·样品的制备 | 第26-27页 |
| ·机理介绍 | 第27-28页 |
| ·表征方法 | 第28-29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-35页 |
| ·反应温度对白炭黑粒径的影响 | 第29页 |
| ·体系pH 值对白炭黑粒径的影响 | 第29-30页 |
| ·水玻璃的波美度对白炭黑粒径的影响 | 第30-31页 |
| ·非离子表面活性剂对白炭黑粒径的影响 | 第31-33页 |
| ·无水乙醇对白炭黑粒径的影响 | 第33-34页 |
| ·干燥问题 | 第34-35页 |
| ·样品的表征 | 第35-39页 |
| ·样品的形貌及粒径分析 | 第35-36页 |
| ·样品的XRD 分析 | 第36-37页 |
| ·样品的IR 分析 | 第37-38页 |
| ·样品的粒径大小分布分析 | 第38页 |
| ·热重分析 | 第38-39页 |
| ·样品的成分分析检测 | 第39-42页 |
| ·白炭黑中Si0_2 含量的分析 | 第39-40页 |
| ·105℃ 挥发物含量的测定 | 第40页 |
| ·干剂灼烧失重的测定 | 第40-41页 |
| ·沉淀白炭黑白度的测定 | 第41页 |
| ·沉淀白炭黑铁含量的测定 | 第41页 |
| ·沉淀白炭黑重金属（Pb）含量的测定 | 第41页 |
| ·沉淀白炭黑砷含量的测定 | 第41页 |
| ·沉淀白炭黑成分分析检测结果 | 第41-42页 |
| ·结论 | 第42-44页 |
| 第三章 四氯化硅与氨水制备沉淀白炭黑 | 第44-57页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·实验部分 | 第44-46页 |
| ·实验药品 | 第44-45页 |
| ·主要实验仪器 | 第45页 |
| ·样品的制备 | 第45-46页 |
| ·机理介绍 | 第46页 |
| ·表征方法 | 第46-47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-51页 |
| ·氨水浓度的影响 | 第47-48页 |
| ·离子型表面活性剂的影响 | 第48-49页 |
| ·搅拌速度的影响 | 第49页 |
| ·煅烧温度的影响 | 第49-51页 |
| ·样品的表征 | 第51-55页 |
| ·样品的XRD 分析 | 第51-52页 |
| ·样品的形貌及粒径分析 | 第52页 |
| ·样品的IR 分析 | 第52-53页 |
| ·样品的粒径大小分布分析 | 第53-54页 |
| ·热重分析 | 第54-55页 |
| ·能谱分析 | 第55页 |
| ·结论 | 第55-57页 |
| 第四章 结论与展望 | 第57-59页 |
| ·本文结论 | 第57页 |
| ·展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 附录 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
