980nm半导体激光器腔面膜研究

摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-6页
目录	第6-8页
第一章 绪论	第8-16页
·半导体激光器	第8-12页
·半导体激光器的分类	第8-9页
·半导体激光器的应用	第9-12页
·光学薄膜	第12-15页
·光学薄膜的发展	第12页
·半导体激光器腔面膜	第12-14页
·薄膜制备技术	第14-15页
·论文主要内容	第15-16页
第二章 基本理论	第16-29页
·半导体激光器的结构	第16-24页
·光增益理论	第17-19页
·阈值电流密度	第19页
·伏-安特性	第19-21页
·欧姆接触原理	第21-24页
·薄膜理论	第24-29页
·单层介质膜	第24-25页
·周期性多层薄膜基本理论	第25-29页
第三章 膜系设计	第29-37页
·半导体激光器腔面膜设计要求	第29-30页
·薄膜材料的选择	第30-31页
·980nm半导体激光器腔面膜设计	第31-37页
·薄膜损伤机理	第31-32页
·电场强度的理论分析	第32-33页
·增透膜设计	第33页
·高反膜设计	第33-37页
第四章 工艺制备	第37-49页
·设备介绍	第37-43页
·真空度介绍	第38-39页
·蒸发技术	第39-41页
·薄膜监控方法	第41-43页
·制备工艺	第43-49页
·实验步骤	第43-44页
·测试结果	第44-49页
总结	第49-50页
致谢	第50-51页
参考文献	第51-52页